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基板处理装置、基板处理方法以及基板处理设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311163485.1
申请日
:
2023-09-11
公开(公告)号
:
CN118136548A
公开(公告)日
:
2024-06-04
发明(设计)人
:
严基象
朴岽云
孙永俊
李㥥滥
崔晋镐
申请人
:
细美事有限公司
申请人地址
:
韩国忠清南道
IPC主分类号
:
H01L21/67
IPC分类号
:
代理机构
:
北京钲霖知识产权代理有限公司 11722
代理人
:
李英艳;玉昌峰
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-10-03
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20230911
2024-06-04
公开
公开
共 50 条
[1]
基板处理装置、基板处理方法以及基板处理设备
[P].
金铉玟
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金铉玟
.
韩国专利
:CN118136547A
,2024-06-04
[2]
基板处理装置、基板处理方法以及基板处理设备
[P].
金度亨
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金度亨
;
金大勋
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金大勋
;
金永珍
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金永珍
;
姜兑昊
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
姜兑昊
;
韩泳遵
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
韩泳遵
;
崔恩赫
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
崔恩赫
;
李俊权
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
李俊权
.
韩国专利
:CN117637521A
,2024-03-01
[3]
基板处理装置、基板处理设备以及基板处理方法
[P].
朴仁煌
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朴仁煌
;
金成弼
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金成弼
;
金局生
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金局生
;
金耿民
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金耿民
.
中国专利
:CN112735975A
,2021-04-30
[4]
基板处理装置以及基板处理设备
[P].
李相旼
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李相旼
;
吴承勋
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吴承勋
;
任镕浚
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任镕浚
;
梁孝源
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梁孝源
.
中国专利
:CN115148625A
,2022-10-04
[5]
基板处理装置以及基板处理设备
[P].
李相旼
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
李相旼
;
吴承勋
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
吴承勋
;
任镕浚
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
任镕浚
;
梁孝源
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
梁孝源
.
韩国专利
:CN115148625B
,2025-02-14
[6]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
金度延
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金度延
;
吴世勋
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
吴世勋
;
金源根
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细美事有限公司
细美事有限公司
金源根
;
李周美
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细美事有限公司
细美事有限公司
李周美
;
黄浩钟
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细美事有限公司
细美事有限公司
黄浩钟
;
许弼覠
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细美事有限公司
细美事有限公司
许弼覠
;
尹铉
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
尹铉
;
李忠现
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细美事有限公司
细美事有限公司
李忠现
;
朴炫九
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
朴炫九
.
韩国专利
:CN112201589B
,2024-04-05
[7]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
金度延
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金度延
;
吴世勋
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吴世勋
;
金源根
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金源根
;
李周美
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李周美
;
黄浩钟
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黄浩钟
;
许弼覠
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许弼覠
;
尹铉
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尹铉
;
李忠现
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李忠现
;
朴炫九
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朴炫九
.
中国专利
:CN112201589A
,2021-01-08
[8]
基板处理方法以及基板处理装置
[P].
吉川润
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吉川润
;
福留誉司
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福留誉司
.
中国专利
:CN106252268B
,2016-12-21
[9]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
山口侑二
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
山口侑二
;
折坂昌幸
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
折坂昌幸
;
宫川纱希
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
宫川纱希
.
日本专利
:CN115176335B
,2025-09-26
[10]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
稻富弘朗
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
稻富弘朗
;
枇杷聪
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
枇杷聪
;
冈村聪
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
冈村聪
.
日本专利
:CN111211069B
,2025-02-18
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