基板处理装置以及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010609507.2

申请日：

2020-06-29

公开(公告)号：

CN112201589A

公开(公告)日：

2021-01-08

发明(设计)人：

金度延吴世勋金源根李周美黄浩钟许弼覠尹铉李忠现朴炫九

申请人：

申请人地址：

韩国忠清南道

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H05K900 H01L2102

代理机构：

北京钲霖知识产权代理有限公司 11722

代理人：

李英艳;玉昌峰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-01-08	公开	公开
2021-08-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20200629

共 50 条

[1]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

金度延 ;

吴世勋 ;

金源根 ;

李周美 ;

黄浩钟 ;

许弼覠 ;

尹铉 ;

李忠现 ;

朴炫九 .

韩国专利 :CN112201589B ,2024-04-05

[2]

基板处理装置、基板处理方法以及基板处理设备 [P].

严基象 ;

朴岽云 ;

孙永俊 ;

李㥥滥 ;

崔晋镐 .

韩国专利 :CN118136548A ,2024-06-04

[3]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

马熙铨 .

韩国专利 :CN119133001A ,2024-12-13

[4]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

吉川润 ;

福留誉司 .

中国专利 :CN106252268B ,2016-12-21

[5]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

山口侑二 ;

折坂昌幸 ;

宫川纱希 .

日本专利 :CN115176335B ,2025-09-26

[6]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

稻富弘朗 ;

枇杷聪 ;

冈村聪 .

日本专利 :CN111211069B ,2025-02-18

[7]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

禹在苑 .

日本专利 :CN113178387B ,2024-10-18

[8]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

禹在苑 .

中国专利 :CN113178387A ,2021-07-27

[9]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

广木勤 ;

金丸进悟 .

日本专利 :CN118891395A ,2024-11-01

[10]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

郑镇优 ;

尹堵铉 ;

李龙熙 .

中国专利 :CN114695172A ,2022-07-01

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