基板处理方法以及基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110058361.1

申请日：

2021-01-15

公开(公告)号：

CN113178387B

公开(公告)日：

2024-10-18

发明(设计)人：

禹在苑

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21/311

IPC分类号：

H01L21/67

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-10-18	授权	授权

共 50 条

[1]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

禹在苑 .

中国专利 :CN113178387A ,2021-07-27

[2]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

新藤尚树 ;

松永淳一郎 .

日本专利 :CN119487616A ,2025-02-18

[3]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

广木勤 ;

金丸进悟 .

日本专利 :CN118891395A ,2024-11-01

[4]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

李黎夫 ;

仓本纯弥 ;

荒卷昂 ;

辻本宏 .

中国专利 :CN114496705A ,2022-05-13

[5]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

小川淳 ;

矢部和雄 .

中国专利 :CN107680896A ,2018-02-09

[6]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

西村荣一 ;

清水昭贵 ;

山下扶美子 ;

浦山大介 .

中国专利 :CN104350584B ,2015-02-11

[7]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

加藤寿 ;

和村有 ;

长谷部一秀 ;

两角友一朗 .

日本专利 :CN119069330A ,2024-12-03

[8]

基板处理装置、基板处理方法以及基板处理设备 [P].

严基象 ;

朴岽云 ;

孙永俊 ;

李㥥滥 ;

崔晋镐 .

韩国专利 :CN118136548A ,2024-06-04

[9]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

金度延 ;

吴世勋 ;

金源根 ;

李周美 ;

黄浩钟 ;

许弼覠 ;

尹铉 ;

李忠现 ;

朴炫九 .

韩国专利 :CN112201589B ,2024-04-05

[10]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

金度延 ;

吴世勋 ;

金源根 ;

李周美 ;

黄浩钟 ;

许弼覠 ;

尹铉 ;

李忠现 ;

朴炫九 .

中国专利 :CN112201589A ,2021-01-08

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