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基板处理装置以及基板处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202380027577.9
申请日
:
2023-03-13
公开(公告)号
:
CN118891395A
公开(公告)日
:
2024-11-01
发明(设计)人
:
广木勤
金丸进悟
申请人
:
东京毅力科创株式会社
申请人地址
:
日本
IPC主分类号
:
C23C16/455
IPC分类号
:
H01L21/31
H01L21/316
H01L21/318
代理机构
:
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
:
吕琳;朴秀玉
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-11-01
公开
公开
2024-11-19
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20230313
共 50 条
[1]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
山口侑二
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
山口侑二
;
折坂昌幸
论文数:
0
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0
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
折坂昌幸
;
宫川纱希
论文数:
0
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0
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0
机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
宫川纱希
.
日本专利
:CN115176335B
,2025-09-26
[2]
基板处理方法以及基板处理装置
[P].
禹在苑
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
禹在苑
.
日本专利
:CN113178387B
,2024-10-18
[3]
基板处理方法以及基板处理装置
[P].
禹在苑
论文数:
0
引用数:
0
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0
禹在苑
.
中国专利
:CN113178387A
,2021-07-27
[4]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
李黎夫
论文数:
0
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李黎夫
;
仓本纯弥
论文数:
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仓本纯弥
;
荒卷昂
论文数:
0
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荒卷昂
;
辻本宏
论文数:
0
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0
辻本宏
.
中国专利
:CN114496705A
,2022-05-13
[5]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
小川淳
论文数:
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小川淳
;
矢部和雄
论文数:
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矢部和雄
.
中国专利
:CN107680896A
,2018-02-09
[6]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
加藤寿
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
加藤寿
;
和村有
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
和村有
;
长谷部一秀
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
长谷部一秀
;
两角友一朗
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
两角友一朗
.
日本专利
:CN119069330A
,2024-12-03
[7]
基板处理装置、基板处理方法以及基板处理设备
[P].
严基象
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
严基象
;
朴岽云
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
朴岽云
;
孙永俊
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
孙永俊
;
李㥥滥
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
李㥥滥
;
崔晋镐
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
崔晋镐
.
韩国专利
:CN118136548A
,2024-06-04
[8]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
金度延
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金度延
;
吴世勋
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
吴世勋
;
金源根
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金源根
;
李周美
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
李周美
;
黄浩钟
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
黄浩钟
;
许弼覠
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
许弼覠
;
尹铉
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
尹铉
;
李忠现
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
李忠现
;
朴炫九
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
朴炫九
.
韩国专利
:CN112201589B
,2024-04-05
[9]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
小林信雄
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小林信雄
;
古川长树
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古川长树
;
山崎克弘
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山崎克弘
;
齐藤裕树
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齐藤裕树
.
中国专利
:CN107275257A
,2017-10-20
[10]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
金度延
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金度延
;
吴世勋
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吴世勋
;
金源根
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金源根
;
李周美
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李周美
;
黄浩钟
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黄浩钟
;
许弼覠
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许弼覠
;
尹铉
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尹铉
;
李忠现
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李忠现
;
朴炫九
论文数:
0
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朴炫九
.
中国专利
:CN112201589A
,2021-01-08
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