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光谱分析装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010935147.5
申请日
:
2020-09-08
公开(公告)号
:
CN112198126A
公开(公告)日
:
2021-01-08
发明(设计)人
:
王建平
王志新
邱小龙
潘腾飞
张淞
申请人
:
申请人地址
:
510623 广东省广州市广州高新技术产业开发区科学城揽月路80号科技创新基地C区第2层204-206、207-211单元、D区第6层615-617单元
IPC主分类号
:
G01N2127
IPC分类号
:
G01N2175
G01N2125
代理机构
:
广州华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人
:
王南杰
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-01-26
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/27 申请日:20200908
2021-01-08
公开
公开
共 50 条
[1]
光谱分析装置
[P].
王建平
论文数:
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王建平
;
王志新
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王志新
;
邱小龙
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邱小龙
;
潘腾飞
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潘腾飞
;
张淞
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张淞
.
中国专利
:CN212255051U
,2020-12-29
[2]
光谱分析装置、光谱分析系统和光谱分析方法
[P].
林田纯弥
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
林田纯弥
;
柿下容弓
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
柿下容弓
;
服部英春
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
服部英春
;
堀入纯
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
堀入纯
.
日本专利
:CN120112781A
,2025-06-06
[3]
光谱分析用池、光谱分析装置和光谱分析方法
[P].
上野楠夫
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机构:
株式会社堀场制作所
株式会社堀场制作所
上野楠夫
;
村上达希
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机构:
株式会社堀场制作所
株式会社堀场制作所
村上达希
;
箕轮大辉
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机构:
株式会社堀场制作所
株式会社堀场制作所
箕轮大辉
.
日本专利
:CN121057932A
,2025-12-02
[4]
光谱分析装置和光谱分析方法
[P].
西村克美
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西村克美
.
中国专利
:CN107367469B
,2017-11-21
[5]
光谱分析装置和光谱分析方法
[P].
冯胜
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冯胜
.
中国专利
:CN115343227A
,2022-11-15
[6]
通用气体光谱分析装置及气体光谱分析系统
[P].
苑高强
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苑高强
;
刘民玉
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刘民玉
.
中国专利
:CN110018124A
,2019-07-16
[7]
通用气体光谱分析装置及气体光谱分析系统
[P].
苑高强
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苑高强
;
刘民玉
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刘民玉
.
中国专利
:CN207850907U
,2018-09-11
[8]
光谱分析装置
[P].
村山广大
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村山广大
;
杉野弘幸
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杉野弘幸
;
渡边芙美枝
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渡边芙美枝
;
伊东笃志
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伊东笃志
.
中国专利
:CN111542747A
,2020-08-14
[9]
光谱分析装置
[P].
杨素萍
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杨素萍
;
曾维蒸
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曾维蒸
;
程松
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程松
;
张鸿
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张鸿
.
中国专利
:CN306971539S
,2021-11-30
[10]
光谱分析装置
[P].
张鸿
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张鸿
;
覃秋军
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覃秋军
;
黄志雷
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黄志雷
;
王宇
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王宇
.
中国专利
:CN214951801U
,2021-11-30
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