基板处理方法和基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010986383.X

申请日：

2020-09-18

公开(公告)号：

CN112582302A

公开(公告)日：

2021-03-30

发明(设计)人：

上村史洋笠原政俊南辉臣须中郁雄

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20200918
2021-03-30	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

横内健一 .

中国专利 :CN101165854A ,2008-04-23

[2]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

尾辻正幸 ;

高桥弘明 ;

加藤雅彦 ;

山口佑 ;

佐佐木悠太 .

中国专利 :CN112151415A ,2020-12-29

[3]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

吉田幸史 ;

髙桥弘明 ;

尾辻正幸 ;

奥谷学 ;

前田主悦 ;

阿部博史 ;

安田周一 ;

金松泰范 .

中国专利 :CN109904093A ,2019-06-18

[4]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

滨岛悠太 ;

小杉仁 ;

菅野至 ;

野中纯 .

日本专利 :CN120826769A ,2025-10-21

[5]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

篠原和義 ;

吉田祐希 .

中国专利 :CN106463377B ,2017-02-22

[6]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

尾辻正幸 ;

高桥弘明 ;

加藤雅彦 ;

山口佑 ;

佐佐木悠太 .

日本专利 :CN112151415B ,2024-07-23

[7]

基板处理装置、基板处理方法和基板处理程序 [P].

大塚庆崇 ;

中满孝志 .

中国专利 :CN1828828A ,2006-09-06

[8]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

池田朋生 ;

日高章一郎 .

日本专利 :CN110783228B ,2024-07-30

[9]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

田边万奈 ;

高居康介 ;

增井健二 ;

梅泽华织 .

日本专利 :CN111696884B ,2024-01-16

[10]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

本田拓巳 ;

山下浩司 ;

田原真二 ;

百武宏展 .

日本专利 :CN110010520B ,2024-03-26

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