基板处理方法和基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811469611.5

申请日：

2018-11-28

公开(公告)号：

CN109904093A

公开(公告)日：

2019-06-18

发明(设计)人：

吉田幸史髙桥弘明尾辻正幸奥谷学前田主悦阿部博史安田周一金松泰范

申请人：

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

宋晓宝;向勇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-07-12	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20181128
2019-06-18	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

上村史洋 ;

笠原政俊 ;

南辉臣 ;

须中郁雄 .

中国专利 :CN112582302A ,2021-03-30

[2]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

横内健一 .

中国专利 :CN101165854A ,2008-04-23

[3]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

尾辻正幸 ;

高桥弘明 ;

加藤雅彦 ;

山口佑 ;

佐佐木悠太 .

中国专利 :CN112151415A ,2020-12-29

[4]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

尾辻正幸 ;

高桥弘明 ;

加藤雅彦 ;

山口佑 ;

佐佐木悠太 .

日本专利 :CN112151415B ,2024-07-23

[5]

基板处理方法及基板处理装置 [P].

高桥弘明 ;

藤原直澄 ;

尾辻正幸 ;

吉田幸史 ;

上田大 .

中国专利 :CN113169061A ,2021-07-23

[6]

基板处理方法及基板处理装置 [P].

高桥弘明 ;

藤原直澄 ;

尾辻正幸 ;

吉田幸史 ;

上田大 .

日本专利 :CN113169061B ,2024-09-24

[7]

一种基板处理方法和基板处理装置 [P].

奥谷学 ;

髙桥弘明 ;

尾辻正幸 ;

阿部博史 ;

前田主悦 ;

中井仁司 ;

佐佐木悠太 .

中国专利 :CN109545655A ,2019-03-29

[8]

基板处理装置、基板处理方法和基板处理程序 [P].

大塚庆崇 ;

中满孝志 .

中国专利 :CN1828828A ,2006-09-06

[9]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

池田朋生 ;

日高章一郎 .

日本专利 :CN110783228B ,2024-07-30

[10]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

田边万奈 ;

高居康介 ;

增井健二 ;

梅泽华织 .

日本专利 :CN111696884B ,2024-01-16

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