基板处理方法及基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980076850.0

申请日：

2019-10-28

公开(公告)号：

CN113169061B

公开(公告)日：

2024-09-24

发明(设计)人：

高桥弘明藤原直澄尾辻正幸吉田幸史上田大

申请人：

株式会社斯库林集团

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

H01L21/304

IPC分类号：

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

陈伟;沈静

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-09-24	授权	授权

共 50 条

[1]

基板处理方法及基板处理装置 [P].

高桥弘明 ;

藤原直澄 ;

尾辻正幸 ;

吉田幸史 ;

上田大 .

中国专利 :CN113169061A ,2021-07-23

[2]

基板处理方法及基板处理装置 [P].

尾辻正幸 .

中国专利 :CN107924834B ,2018-04-17

[3]

基板处理方法及基板处理装置 [P].

尾辻正幸 .

中国专利 :CN107851571B ,2018-03-27

[4]

基板处理方法及基板处理装置 [P].

奥谷学 ;

阿部博史 .

中国专利 :CN110098137A ,2019-08-06

[5]

基板处理方法及基板处理装置 [P].

尾辻正幸 .

中国专利 :CN107818912A ,2018-03-20

[6]

基板处理方法及基板处理装置 [P].

阿部博史 ;

奥谷学 ;

吉原直彦 .

中国专利 :CN108305829B ,2018-07-20

[7]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

吉田幸史 ;

髙桥弘明 ;

尾辻正幸 ;

奥谷学 ;

前田主悦 ;

阿部博史 ;

安田周一 ;

金松泰范 .

中国专利 :CN109904093A ,2019-06-18

[8]

基板处理方法、基板处理液及基板处理装置 [P].

佐佐木悠太 .

中国专利 :CN110800087A ,2020-02-14

[9]

基板处理方法、基板处理液及基板处理装置 [P].

佐佐木悠太 .

日本专利 :CN110800087B ,2024-03-19

[10]

基板处理装置、基板处理方法及基板处理程序 [P].

火口友美 ;

鳅场真树 ;

胡铃达 ;

岩川裕 ;

藤原直树 ;

吉原直彦 .

日本专利 :CN119542182A ,2025-02-28

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