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基板处理方法及基板处理装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201711458281.5
申请日：
2017-12-28
公开(公告)号：
CN108305829B
公开(公告)日：
2018-07-20
发明(设计)人：
阿部博史
奥谷学
吉原直彦
申请人：
申请人地址：
日本京都府
IPC主分类号：
H01L2102
IPC分类号：
H01L2167
代理机构：
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人：
向勇;崔炳哲
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-02-08 | 授权 | 授权 |
| 2018-08-14 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20171228 |
| 2018-07-20 | 公开 | 公开 |