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基板处理方法及基板处理装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010267538.4
申请日：
2020-04-08
公开(公告)号：
CN111834198B
公开(公告)日：
2025-01-28
发明(设计)人：
下村伸一郎
申请人：
东京毅力科创株式会社
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01L21/02
IPC分类号：
H01L21/3213
H01L21/67
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
刘新宇;李茂家
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-01-28 | 授权 | 授权 |