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基板处理方法、基板处理装置及基板处理液

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202380055664.5
申请日：
2023-05-24
公开(公告)号：
CN119585848A
公开(公告)日：
2025-03-07
发明(设计)人：
塙洋祐 春本晶子 上田大
申请人：
株式会社斯库林集团
申请人地址：
日本京都府
IPC主分类号：
H01L21/306
IPC分类号：
代理机构：
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人：
宋晓宝
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-03-07 公开 公开
2025-03-25 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/306申请日:20230524
共 50 条
[1]
基板处理方法、基板处理液及基板处理装置 [P]. 
佐佐木悠太 .
中国专利 :CN110800087A ,2020-02-14
[2]
基板处理方法、基板处理液及基板处理装置 [P]. 
佐佐木悠太 .
日本专利 :CN110800087B ,2024-03-19
[3]
基板处理方法、基板处理液以及基板处理装置 [P]. 
佐佐木悠太 ;
塙洋祐 .
中国专利 :CN109560014A ,2019-04-02
[4]
基板液处理装置及基板液处理方法 [P]. 
赵允仙 ;
金瀚沃 ;
鲁圣德 ;
金康元 .
中国专利 :CN105390418B ,2018-11-13
[5]
基板处理液、基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
田中友耶 ;
尾辻正幸 ;
田中孝佳 .
日本专利 :CN116656166B ,2025-11-04
[6]
基板液处理装置及基板液处理方法 [P]. 
赵允仙 ;
金瀚沃 .
中国专利 :CN107078083B ,2017-08-18
[7]
基板液处理装置、基板液处理方法以及基板处理装置 [P]. 
张健 ;
天野嘉文 ;
冈本英一郎 ;
伊藤优树 .
中国专利 :CN105845603B ,2016-08-10
[8]
基板处理方法及基板处理装置 [P]. 
塙洋祐 .
中国专利 :CN113366615A ,2021-09-07
[9]
基板处理方法及基板处理装置 [P]. 
塙洋祐 .
日本专利 :CN113366615B ,2025-05-02
[10]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
宫崎邦浩 ;
南健治 ;
长岛裕次 ;
林航之介 .
中国专利 :CN108461427A ,2018-08-28
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