基板液处理装置、基板液处理方法以及基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610069114.0

申请日：

2016-02-01

公开(公告)号：

CN105845603B

公开(公告)日：

2016-08-10

发明(设计)人：

张健天野嘉文冈本英一郎伊藤优树

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-08-10	公开	公开
2017-08-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101743980254 IPC(主分类):H01L 21/67 专利申请号:2016100691140 申请日:20160201
2020-01-03	授权	授权

共 50 条

[1]

基板处理方法、基板处理液以及基板处理装置 [P].

佐佐木悠太 ;

塙洋祐 .

中国专利 :CN109560014A ,2019-04-02

[2]

基板处理液、基板处理方法以及基板处理装置 [P].

田中友耶 ;

尾辻正幸 ;

田中孝佳 .

日本专利 :CN116656166B ,2025-11-04

[3]

基板液处理装置以及基板液处理方法 [P].

佐藤秀明 .

中国专利 :CN105983549B ,2016-10-05

[4]

基板处理装置、处理液以及基板处理方法 [P].

奥谷学 ;

阿部博史 ;

屋敷启之 .

中国专利 :CN112514032A ,2021-03-16

[5]

基板处理装置、处理液以及基板处理方法 [P].

奥谷学 ;

阿部博史 ;

屋敷启之 .

日本专利 :CN119208198A ,2024-12-27

[6]

基板处理装置、处理液以及基板处理方法 [P].

奥谷学 ;

阿部博史 ;

屋敷启之 .

日本专利 :CN119208197A ,2024-12-27

[7]

基板处理方法、基板处理装置以及处理液 [P].

国枝省吾 ;

佐佐木悠太 ;

塙洋祐 .

日本专利 :CN117981057A ,2024-05-03

[8]

基板处理装置、处理液以及基板处理方法 [P].

奥谷学 ;

阿部博史 ;

屋敷启之 .

日本专利 :CN112514032B ,2024-11-01

[9]

基板液处理装置以及基板液处理方法 [P].

佐藤秀明 ;

永井高志 ;

原大海 .

中国专利 :CN106158703B ,2016-11-23

[10]

基板处理方法、基板处理液及基板处理装置 [P].

佐佐木悠太 .

中国专利 :CN110800087A ,2020-02-14

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