基板处理装置、处理液以及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980049434.1

申请日：

2019-07-10

公开(公告)号：

CN112514032B

公开(公告)日：

2024-11-01

发明(设计)人：

奥谷学阿部博史屋敷启之

申请人：

株式会社斯库林集团

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

H01L21/304

IPC分类号：

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

宋晓宝;向勇

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-01	授权	授权

共 50 条

[1]

基板处理装置、处理液以及基板处理方法 [P].

奥谷学 ;

阿部博史 ;

屋敷启之 .

中国专利 :CN112514032A ,2021-03-16

[2]

基板处理装置、处理液以及基板处理方法 [P].

奥谷学 ;

阿部博史 ;

屋敷启之 .

日本专利 :CN119208198A ,2024-12-27

[3]

基板处理装置、处理液以及基板处理方法 [P].

奥谷学 ;

阿部博史 ;

屋敷启之 .

日本专利 :CN119208197A ,2024-12-27

[4]

基板处理方法、基板处理液以及基板处理装置 [P].

佐佐木悠太 ;

塙洋祐 .

中国专利 :CN109560014A ,2019-04-02

[5]

基板处理液、基板处理方法以及基板处理装置 [P].

田中友耶 ;

尾辻正幸 ;

田中孝佳 .

日本专利 :CN116656166B ,2025-11-04

[6]

基板液处理装置、基板液处理方法以及基板处理装置 [P].

张健 ;

天野嘉文 ;

冈本英一郎 ;

伊藤优树 .

中国专利 :CN105845603B ,2016-08-10

[7]

基板处理方法、基板处理装置以及处理液 [P].

国枝省吾 ;

佐佐木悠太 ;

塙洋祐 .

日本专利 :CN117981057A ,2024-05-03

[8]

基板液处理装置以及基板液处理方法 [P].

佐藤秀明 .

中国专利 :CN105983549B ,2016-10-05

[9]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

谷泽成规 ;

宫路信行 ;

髙冈诚 ;

泽崎尚树 ;

奥村刚 ;

三浦淳靖 .

中国专利 :CN109427548A ,2019-03-05

[10]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

尾辻正幸 .

中国专利 :CN108305842B ,2018-07-20

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