共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
基板处理装置、处理液以及基板处理方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411301683.4
申请日：
2019-07-10
公开(公告)号：
CN119208197A
公开(公告)日：
2024-12-27
发明(设计)人：
奥谷学
阿部博史
屋敷启之
申请人：
株式会社斯库林集团
申请人地址：
日本京都府
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
代理机构：
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人：
宋晓宝
法律状态：
公开
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-12-27 | 公开 | 公开 |
| 2025-01-14 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20190710 |