共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
基片处理装置、基片处理方法和存储介质
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910026268.5
申请日：
2019-01-11
公开(公告)号：
CN110047778B
公开(公告)日：
2024-03-22
发明(设计)人：
野中纯
丸山裕隆
福田喜辉
池田义谦
谷口裕树
申请人：
东京毅力科创株式会社
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
H01L21/02
代理机构：
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人：
龙淳;刘芃茜
法律状态：
授权
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-03-22 | 授权 | 授权 |