基片处理装置、基片处理方法和存储介质

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201911375970.9
申请日
2019-12-27
公开(公告)号
CN111415883A
公开(公告)日
2020-07-14
发明(设计)人
百武宏展
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L2167
IPC分类号
H01L2102
代理机构
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
龙淳;刘芃茜
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P]. 
百武宏展 .
日本专利 :CN111415883B ,2024-04-02
[2]
基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P]. 
藤田阳 .
中国专利 :CN109427629A ,2019-03-05
[3]
基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P]. 
坂本和生 ;
户岛孝之 ;
寺田和雄 ;
小野优子 .
中国专利 :CN109786285A ,2019-05-21
[4]
基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P]. 
德永容一 .
中国专利 :CN110073473B ,2019-07-30
[5]
基片处理方法、基片处理装置和存储介质 [P]. 
甲斐亚希子 ;
田中公一朗 ;
一之宫博 ;
福田昌弘 .
中国专利 :CN109560017A ,2019-04-02
[6]
基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P]. 
野中纯 ;
丸山裕隆 ;
福田喜辉 ;
池田义谦 ;
谷口裕树 .
中国专利 :CN110047778A ,2019-07-23
[7]
基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P]. 
丸本洋 .
中国专利 :CN109216236A ,2019-01-15
[8]
基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P]. 
野中纯 ;
丸山裕隆 ;
福田喜辉 ;
池田义谦 ;
谷口裕树 .
日本专利 :CN110047778B ,2024-03-22
[9]
基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P]. 
鹤崎广太郎 ;
山下浩司 ;
高山和也 ;
金川耕三 .
日本专利 :CN111668136B ,2024-03-22
[10]
基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P]. 
高山和也 ;
鹤崎广太郎 ;
山下浩司 .
中国专利 :CN111653502A ,2020-09-11