基片处理装置、基片处理方法和存储介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810965777.X

申请日：

2018-08-23

公开(公告)号：

CN109427629A

公开(公告)日：

2019-03-05

发明(设计)人：

藤田阳

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L2102

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;徐飞跃

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-06-12	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20180823
2019-03-05	公开	公开

共 50 条

[1]

基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P].

坂本和生 ;

户岛孝之 ;

寺田和雄 ;

小野优子 .

中国专利 :CN109786285A ,2019-05-21

[2]

基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P].

百武宏展 .

中国专利 :CN111415883A ,2020-07-14

[3]

基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P].

德永容一 .

中国专利 :CN110073473B ,2019-07-30

[4]

基片处理方法、基片处理装置和存储介质 [P].

甲斐亚希子 ;

田中公一朗 ;

一之宫博 ;

福田昌弘 .

中国专利 :CN109560017A ,2019-04-02

[5]

基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P].

百武宏展 .

日本专利 :CN111415883B ,2024-04-02

[6]

基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P].

野中纯 ;

丸山裕隆 ;

福田喜辉 ;

池田义谦 ;

谷口裕树 .

中国专利 :CN110047778A ,2019-07-23

[7]

基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P].

丸本洋 .

中国专利 :CN109216236A ,2019-01-15

[8]

基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P].

野中纯 ;

丸山裕隆 ;

福田喜辉 ;

池田义谦 ;

谷口裕树 .

日本专利 :CN110047778B ,2024-03-22

[9]

基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P].

鹤崎广太郎 ;

山下浩司 ;

高山和也 ;

金川耕三 .

日本专利 :CN111668136B ,2024-03-22

[10]

基片处理装置、基片处理方法和存储介质 [P].

高山和也 ;

鹤崎广太郎 ;

山下浩司 .

中国专利 :CN111653502A ,2020-09-11

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