静电电容膜片真空计和真空处理设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910126814.9

申请日：

2009-03-18

公开(公告)号：

CN101539470B

公开(公告)日：

2009-09-23

发明(设计)人：

宫下治三

申请人：

申请人地址：

日本神奈川

IPC主分类号：

G01L2100

IPC分类号：

H01L2100 H01L2166

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

魏小薇

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-05-26	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101002360675 IPC(主分类):G01L 21/00 专利申请号:2009101268149 变更事项:申请人变更前权利人:佳能安内华科技股份有限公司变更后权利人:佳能安内华股份有限公司变更事项:地址变更前权利人:日本神奈川变更后权利人:日本神奈川登记生效日:20100420
2009-09-23	公开	公开
2011-02-16	授权	授权
2009-11-11	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

冷阴极电离真空计、真空处理设备和放电开始辅助电极 [P].

川崎洋補 ;

菊池俊雄 .

中国专利 :CN101858812A ,2010-10-13

[2]

真空处理设备和真空处理方法 [P].

佐长谷肇 ;

渡边直树 ;

徐舸 .

中国专利 :CN102191480A ,2011-09-21

[3]

真空处理设备和真空处理方法 [P].

J·拉姆 ;

B·威德里格 ;

S·卡塞曼 ;

M·D·皮门塔 ;

O·马斯勒 ;

B·汉塞尔曼 .

中国专利 :CN101743338A ,2010-06-16

[4]

真空处理设备和真空处理衬底的方法 [P].

M·布莱斯 ;

T·纳蒂格 .

中国专利 :CN112789717A ,2021-05-11

[5]

真空处理腔室和具有真空处理腔室的真空处理设备 [P].

S·克拉斯尼策尔 .

中国专利 :CN102770936B ,2012-11-07

[6]

用于真空处理设备的内衬装置和真空处理设备 [P].

倪图强 ;

左涛涛 .

中国专利 :CN112071733A ,2020-12-11

[7]

真空闸室和真空处理设备 [P].

约翰·克劳斯 .

中国专利 :CN210458359U ,2020-05-05

[8]

用于真空处理设备的内衬装置和真空处理设备 [P].

倪图强 ;

左涛涛 .

中国专利 :CN112071733B ,2024-03-12

[9]

真空处理设备 [P].

约亨·克劳瑟 .

中国专利 :CN204644463U ,2015-09-16

[10]

真空处理设备 [P].

芦成 .

中国专利 :CN309314458S ,2025-05-30

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