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光刻设备和器件制造方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200710129083.4
申请日：
2007-07-11
公开(公告)号：
CN101105640B
公开(公告)日：
2008-01-16
发明(设计)人：
安德利·B·朱尼克 马塞尔·K·M·博根 德克-让·比沃特 托马斯·J·M·卡斯滕米勒
申请人：
申请人地址：
荷兰维德霍温
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
H01L21027
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
齐晓寰
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2008-01-16 公开 公开
2009-07-15 实质审查的生效 实质审查的生效
2010-12-29 授权 授权
共 50 条
[1]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
约瑟夫·玛丽亚·芬德斯 .
中国专利 :CN101598902B ,2009-12-09
[2]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
R·T·P·考姆彭 ;
M·M·P·A·沃梅尤恩 ;
A·B·杰尤恩克 ;
E·R·鲁普斯卓 ;
J·J·奥腾斯 ;
P·斯密特斯 ;
H·J·M·凡阿毕伦 ;
A·A·梅尤恩迪杰克斯 ;
M·霍本 ;
R·W·A·H·理纳尔斯 .
中国专利 :CN101713929A ,2010-05-26
[3]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
A·J·布里克 ;
J·J·M·巴塞曼斯 ;
M·M·T·M·迪伊里奇斯 ;
C·瓦格纳 ;
L·赖齐科夫 ;
S·Y·斯米诺夫 ;
K·Z·特鲁斯特 .
中国专利 :CN101598904B ,2009-12-09
[4]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
埃尔温·范茨韦特 ;
彼得·德亚格尔 ;
约翰内斯·昂伍李 ;
汉瑞克·德曼 .
中国专利 :CN103238113A ,2013-08-07
[5]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
H·巴特勒 ;
M·J·沃奥尔戴尔冬克 ;
M·W·J·E·威吉克曼斯 .
中国专利 :CN110268332A ,2019-09-20
[6]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
J·J·奥坦斯 ;
M·E·J·伯恩曼 ;
T·J·M·卡斯坦米勒 ;
A·B·祖尼克 .
中国专利 :CN1971430A ,2007-05-30
[7]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
M·M·J·W·范赫彭 ;
V·Y·班尼恩 ;
J·P·H·德卡斯特尔 ;
J·H·J·莫尔斯 ;
L·H·J·斯蒂文斯 ;
B·T·沃尔斯克里基恩 ;
Y·V·塞德尔尼科 ;
M·H·L·范德威尔登 ;
W·A·索尔 ;
K·杰里森 ;
T·斯蒂恩 .
中国专利 :CN101523293A ,2009-09-02
[8]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
A·J·布里克 ;
J·J·M·巴塞曼斯 ;
M·M·T·M·迪伊里奇斯 ;
C·瓦格纳 ;
L·赖齐科夫 ;
S·Y·斯米诺夫 ;
K·Z·特鲁斯特 .
中国专利 :CN1797214A ,2006-07-05
[9]
器件制造方法和光刻设备 [P]. 
L·C·德温特 ;
J·M·芬德尔斯 .
中国专利 :CN101866117B ,2010-10-20
[10]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
H·K·尼恩黑斯 ;
M·A·W·崔帕斯 ;
L·M·莱瓦西尔 ;
简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 ;
Y·J·G·范德维基沃尔 ;
O·V·沃兹纳 ;
F·J·J·詹森 ;
D·M·H·菲利普斯 ;
M·A·C·马兰达 ;
O·加拉克季奥诺夫 ;
L·J·A·凡鲍克霍文 ;
N·坦凯特 ;
M·兰詹 ;
A·P·瑞吉普玛 ;
K·巴尔 ;
R·W·A·H·施密茨 ;
A·L·C·勒鲁 .
中国专利 :CN102681351A ,2012-09-19
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