正型抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210042952.0

申请日：

2012-02-23

公开(公告)号：

CN102650830B

公开(公告)日：

2012-08-29

发明(设计)人：

染谷和也山口敏弘青木知三郎

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

G03F7039

IPC分类号：

G03F700

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

翟赟琪

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-01-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101560123395 IPC(主分类):G03F 7/039 专利申请号:2012100429520 申请日:20120223
2016-08-03	授权	授权
2012-08-29	公开	公开

共 50 条

[1]

正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 [P].

森尾公隆 ;

青木知三郎 ;

加藤哲也 ;

中岛哲矢 .

中国专利 :CN1324401C ,2004-09-01

[2]

正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 [P].

中山一彦 ;

高木勇 .

中国专利 :CN1550898A ,2004-12-01

[3]

正型抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P].

广崎贵子 ;

盐野大寿 ;

平山拓 .

中国专利 :CN101176041A ,2008-05-07

[4]

正型抗蚀剂组合物的制备方法、正型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法 [P].

室井雅昭 ;

厚地浩太 ;

中村孝弘 ;

山田雅和 ;

最所贤介 .

中国专利 :CN101223479A ,2008-07-16

[5]

抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P].

中村刚 ;

铃木阳介 ;

李俊烨 .

中国专利 :CN112654926A ,2021-04-13

[6]

正型抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P].

木下洋平 .

中国专利 :CN101198905A ,2008-06-11

[7]

正型抗蚀剂组合物和形成抗蚀图案的方法 [P].

山崎晃义 ;

谷和夫 ;

本池直人 ;

前盛论 ;

吉泽佐智子 .

中国专利 :CN1853140B ,2006-10-25

[8]

抗蚀基材、抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法 [P].

樋田匠 ;

越后雅敏 ;

佐藤隆 ;

清水洋子 .

中国专利 :CN107533290B ,2018-01-02

[9]

抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法 [P].

长峰高志 ;

中村刚 .

中国专利 :CN107844031A ,2018-03-27

[10]

正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 [P].

萩原三雄 ;

中绪卓 ;

新田和行 .

中国专利 :CN100410810C ,2005-02-02

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