具有磁场增强装置的等离子体装置

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN200720169925.4
申请日
2007-07-27
公开(公告)号
CN201066954Y
公开(公告)日
2008-05-28
发明(设计)人
陈强 张跃飞 付亚波 杨丽珍 孙运金
申请人
申请人地址
102600北京市大兴区黄村镇兴华北路25号北京印刷学院
IPC主分类号
H05H110
IPC分类号
代理机构
北京同汇友专利事务所
代理人
高云瑞;杨宗润
法律状态
专利权的终止
国省代码
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共 50 条
[1]
具有磁场增强旋转阵列电极的等离子体装置 [P]. 
陈强 ;
杨丽珍 ;
刘忠伟 ;
王正铎 ;
桑利军 .
中国专利 :CN103643221B ,2014-03-19
[2]
一种等离子体增强化学气相沉积微晶硅薄膜的方法 [P]. 
陈强 ;
杨丽珍 ;
王正铎 ;
刘忠伟 ;
张春梅 ;
张受业 .
中国专利 :CN102534570A ,2012-07-04
[3]
一种磁场增强等离子体射流的发生装置 [P]. 
卢新培 ;
晋绍珲 ;
聂兰兰 .
中国专利 :CN114845459A ,2022-08-02
[4]
磁场增强的沿面放电低温等离子体发生装置 [P]. 
茆春雷 .
中国专利 :CN221329193U ,2024-07-12
[5]
具有非金属基座的等离子体CVD装置 [P]. 
深泽笃毅 ;
松木信雄 ;
李禹镇 ;
清水三喜男 .
中国专利 :CN101314847A ,2008-12-03
[6]
一种磁场增强的等离子体枪 [P]. 
郑顺奇 ;
齐伟光 ;
倪杨 .
中国专利 :CN202103932U ,2012-01-04
[7]
具有双重型等离子体排出部的等离子体装置 [P]. 
石东篡 ;
卢泰协 ;
郑熔镐 ;
崔荣燮 ;
柳承烈 .
中国专利 :CN110958755A ,2020-04-03
[8]
等离子体反应室及具有其的等离子体装置 [P]. 
武小娟 .
中国专利 :CN103515179A ,2014-01-15
[9]
一种磁场增强平板等离子体化学气相沉积设备及系统 [P]. 
赵高 ;
朱慧钦 ;
滕达 ;
桓琼莎 .
中国专利 :CN110923673B ,2020-03-27
[10]
等离子体装置 [P]. 
柯明贤 ;
赖丰文 ;
林昆蔚 ;
张均豪 ;
陈泰宏 .
中国专利 :CN103839747A ,2014-06-04