一种磁场增强平板等离子体化学气相沉积设备及系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911074079.1

申请日：

2019-11-05

公开(公告)号：

CN110923673B

公开(公告)日：

2020-03-27

发明(设计)人：

赵高朱慧钦滕达桓琼莎

申请人：

申请人地址：

450044 河南省郑州市惠济区大学城北区英才街6号

IPC主分类号：

H01L21205

IPC分类号：

代理机构：

北京城烽知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11829

代理人：

王新月

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/50 申请日:20191105
2022-05-13	授权	授权
2022-06-28	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):H01L 21/205 变更事项:发明人变更前:赵高朱慧钦滕达桓琼莎变更后:赵高朱惠钦滕达桓琼莎
2020-03-27	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体化学气相沉积系统及方法 [P].

孙元成 ;

宋学富 ;

杜秀蓉 ;

张晓强 ;

钟利强 ;

杨晓会 .

中国专利 :CN110894599A ,2020-03-20

[2]

一种等离子体化学气相沉积设备 [P].

滕海燕 .

中国专利 :CN106756894A ,2017-05-31

[3]

一种等离子体化学气相沉积装置 [P].

朱珠 .

中国专利 :CN206635413U ,2017-11-14

[4]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

米山典孝 ;

大泽笃史 ;

坂本拓海 ;

中岛直人 .

中国专利 :CN105018899A ,2015-11-04

[5]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

I·米莉瑟维克 ;

M·J·N·范·斯特劳伦 ;

G·克拉比希斯 ;

A·H·E·布勒尔斯 .

中国专利 :CN115369380A ,2022-11-22

[6]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

富田修弘 ;

庄健太郎 ;

笠谷昌史 .

中国专利 :CN1103382C ,1998-09-09

[7]

等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统 [P].

杨普磊 ;

祖章旭 ;

赵成林 .

中国专利 :CN203284462U ,2013-11-13

[8]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

姜杉 ;

李建东 ;

杨志永 .

中国专利 :CN201587981U ,2010-09-22

[9]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

欧阳亮 .

中国专利 :CN120231033A ,2025-07-01

[10]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

吴斌 .

中国专利 :CN222935510U ,2025-06-03

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