等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201320250400.9

申请日：

2013-05-10

公开(公告)号：

CN203284462U

公开(公告)日：

2013-11-13

发明(设计)人：

杨普磊祖章旭赵成林

申请人：

申请人地址：

054100 河北省邢台市沙河市东环路中段

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

C23C16513

代理机构：

石家庄国为知识产权事务所 13120

代理人：

夏素霞

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-11-13	授权	授权
2015-06-24	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101615362308 IPC(主分类):C23C 16/455 专利号:ZL2013202504009 申请日:20130510 授权公告日:20131113 终止日期:20140510

共 50 条

[1]

一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备 [P].

冯建伟 .

中国专利 :CN217077786U ,2022-07-29

[2]

一种等离子体化学气相沉积镀膜装置 [P].

吴婷婷 .

中国专利 :CN216303984U ,2022-04-15

[3]

等离子体气相沉积镀膜设备 [P].

黄章华 .

中国专利 :CN216192696U ,2022-04-05

[4]

一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备 [P].

因福明 ;

沈杰 .

中国专利 :CN213803978U ,2021-07-27

[5]

一种等离子体化学气相沉积镀膜装置 [P].

渠洪波 .

中国专利 :CN205443446U ,2016-08-10

[6]

微波等离子体化学气相沉积设备 [P].

刘文科 ;

李俊宏 ;

胡宗义 .

中国专利 :CN223705738U ,2025-12-23

[7]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

米山典孝 ;

大泽笃史 ;

坂本拓海 ;

中岛直人 .

中国专利 :CN105018899A ,2015-11-04

[8]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

I·米莉瑟维克 ;

M·J·N·范·斯特劳伦 ;

G·克拉比希斯 ;

A·H·E·布勒尔斯 .

中国专利 :CN115369380A ,2022-11-22

[9]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

富田修弘 ;

庄健太郎 ;

笠谷昌史 .

中国专利 :CN1103382C ,1998-09-09

[10]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

胡冬冬 .

中国专利 :CN207713814U ,2018-08-10

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