等离子体气相沉积镀膜设备

被引：0

申请号：

CN202122664180.1

申请日：

2021-11-02

公开(公告)号：

CN216192696U

公开(公告)日：

2022-04-05

发明(设计)人：

黄章华

申请人：

申请人地址：

510530 广东省广州市高新技术产业开发区科学城开泰大道59号

IPC主分类号：

C23C16507

IPC分类号：

C23C1654

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

刘国萍

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-04-05	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体气相沉积设备 [P].

张斌 ;

李王俊 .

中国专利 :CN213680874U ,2021-07-13

[2]

等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统 [P].

杨普磊 ;

祖章旭 ;

赵成林 .

中国专利 :CN203284462U ,2013-11-13

[3]

等离子体气相沉积设备 [P].

刘祥 ;

周东平 ;

张晓 .

中国专利 :CN119640240B ,2025-05-13

[4]

等离子体气相沉积设备 [P].

刘祥 ;

周东平 ;

张晓 .

中国专利 :CN119640240A ,2025-03-18

[5]

等离子体气相沉积设备 [P].

王凤明 ;

李王俊 ;

陈晨 .

中国专利 :CN111705307A ,2020-09-25

[6]

等离子体气相沉积用工件固定治具及等离子体气相沉积设备 [P].

柏洋 ;

吴其涛 .

中国专利 :CN209555369U ,2019-10-29

[7]

一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备 [P].

因福明 ;

沈杰 .

中国专利 :CN213803978U ,2021-07-27

[8]

等离子体气相沉积方法 [P].

聂佳相 ;

康芸 ;

杨瑞鹏 .

中国专利 :CN101736307A ,2010-06-16

[9]

一种等离子体化学气相沉积镀膜装置 [P].

吴婷婷 .

中国专利 :CN216303984U ,2022-04-15

[10]

一种等离子体气相沉积设备 [P].

袁园 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN207243990U ,2018-04-17

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