一种等离子体化学气相沉积镀膜装置

被引：0

申请号：

CN202122927339.4

申请日：

2021-11-25

公开(公告)号：

CN216303984U

公开(公告)日：

2022-04-15

发明(设计)人：

吴婷婷

申请人：

申请人地址：

518000 广东省深圳市龙岗区横岗街道荷坳社区金源三路4号厂房四楼整层

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

C23C16458 C23C1650 F16F15067

代理机构：

深圳市汇信知识产权代理有限公司 44477

代理人：

张志凯

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-04-15	授权	授权

共 50 条

[1]

一种小型等离子体化学气相沉积镀膜装置 [P].

李双江 ;

董顺 ;

曹崇友 .

中国专利 :CN207435543U ,2018-06-01

[2]

一种等离子体化学气相沉积镀膜装置 [P].

渠洪波 .

中国专利 :CN205443446U ,2016-08-10

[3]

等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统 [P].

杨普磊 ;

祖章旭 ;

赵成林 .

中国专利 :CN203284462U ,2013-11-13

[4]

一种小型等离子体化学气相沉积装置 [P].

李双江 ;

董顺 ;

曹崇友 .

中国专利 :CN207498467U ,2018-06-15

[5]

一种等离子体化学气相沉积装置 [P].

朱珠 .

中国专利 :CN206635413U ,2017-11-14

[6]

连续式等离子体化学气相沉积装置 [P].

玉垣浩 ;

芳贺润二 .

中国专利 :CN104903491A ,2015-09-09

[7]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

米山典孝 ;

大泽笃史 ;

坂本拓海 ;

中岛直人 .

中国专利 :CN105018899A ,2015-11-04

[8]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

I·米莉瑟维克 ;

M·J·N·范·斯特劳伦 ;

G·克拉比希斯 ;

A·H·E·布勒尔斯 .

中国专利 :CN115369380A ,2022-11-22

[9]

一种等离子体化学气相沉积装置 [P].

赵月 .

中国专利 :CN216972679U ,2022-07-15

[10]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

富田修弘 ;

庄健太郎 ;

笠谷昌史 .

中国专利 :CN1103382C ,1998-09-09

← 1 2 3 4 5 →