一种小型等离子体化学气相沉积镀膜装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201721538193.1

申请日：

2017-11-17

公开(公告)号：

CN207435543U

公开(公告)日：

2018-06-01

发明(设计)人：

李双江董顺曹崇友

申请人：

申请人地址：

110000 辽宁省沈阳市沈河区凌云街35号

IPC主分类号：

C23C16513

IPC分类号：

代理机构：

沈阳技联专利代理有限公司 21205

代理人：

张志刚

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-01	授权	授权

共 50 条

[1]

一种小型等离子体化学气相沉积装置 [P].

李双江 ;

董顺 ;

曹崇友 .

中国专利 :CN207498467U ,2018-06-15

[2]

一种等离子体化学气相沉积镀膜装置 [P].

吴婷婷 .

中国专利 :CN216303984U ,2022-04-15

[3]

一种等离子体化学气相沉积镀膜装置 [P].

渠洪波 .

中国专利 :CN205443446U ,2016-08-10

[4]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

富田修弘 ;

庄健太郎 ;

笠谷昌史 .

中国专利 :CN1103382C ,1998-09-09

[5]

一种等离子体化学气相沉积装置 [P].

朱珠 .

中国专利 :CN206635413U ,2017-11-14

[6]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

米山典孝 ;

大泽笃史 ;

坂本拓海 ;

中岛直人 .

中国专利 :CN105018899A ,2015-11-04

[7]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

I·米莉瑟维克 ;

M·J·N·范·斯特劳伦 ;

G·克拉比希斯 ;

A·H·E·布勒尔斯 .

中国专利 :CN115369380A ,2022-11-22

[8]

连续式等离子体化学气相沉积装置 [P].

玉垣浩 ;

芳贺润二 .

中国专利 :CN104903491A ,2015-09-09

[9]

等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统 [P].

杨普磊 ;

祖章旭 ;

赵成林 .

中国专利 :CN203284462U ,2013-11-13

[10]

一种等离子体化学气相沉积装置 [P].

石雄安 ;

游归燕 ;

王伟 ;

陈俊鸿 .

中国专利 :CN116145114B ,2025-01-28

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