微波等离子体化学气相沉积设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202520228464.1

申请日：

2025-02-13

公开(公告)号：

CN223705738U

公开(公告)日：

2025-12-23

发明(设计)人：

刘文科李俊宏胡宗义

申请人：

成都沃特塞恩电子技术有限公司

申请人地址：

610000 四川省成都市高新区益州大道中段1800号3栋3层301号

IPC主分类号：

C23C16/511

IPC分类号：

C23C16/458

代理机构：

北京卓恒知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11394

代理人：

孔鹏

法律状态：

授权

国省代码：

江苏省常州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-12-23	授权	授权

共 50 条

[1]

微波等离子体化学气相沉积设备及改善镀膜质量的方法 [P].

刘文科 ;

李俊宏 ;

胡宗义 .

中国专利 :CN119640243A ,2025-03-18

[2]

一种微波等离子体化学气相沉积设备 [P].

黄春林 ;

胡宗义 ;

刘文科 ;

吴丹 ;

李俊宏 .

中国专利 :CN220827462U ,2024-04-23

[3]

一种微波等离子体化学气相沉积设备 [P].

黄春林 ;

刘文科 ;

冯智飞 ;

李俊宏 ;

季宇 .

中国专利 :CN114381718B ,2024-03-26

[4]

一种微波等离子体化学气相沉积设备 [P].

黄春林 ;

刘文科 ;

冯智飞 ;

李俊宏 ;

季宇 .

中国专利 :CN114381718A ,2022-04-22

[5]

微波等离子体化学气相沉积设备(MPCVD) [P].

张俊生 ;

胡常青 .

中国专利 :CN308664259S ,2024-05-31

[6]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

牛进毅 ;

苗岱 .

中国专利 :CN212505057U ,2021-02-09

[7]

一种微波等离子体化学气相沉积设备盖板 [P].

袁稳 ;

郑怡 ;

袁良 .

中国专利 :CN222594004U ,2025-03-11

[8]

一种微波等离子体化学气相沉积设备 [P].

范杰 ;

黄翀 .

中国专利 :CN214060635U ,2021-08-27

[9]

微波等离子体化学气相沉积系统设备（MPCVD） [P].

李再强 .

中国专利 :CN308953106S ,2024-11-19

[10]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

牛进毅 ;

苗岱 .

中国专利 :CN111910170B ,2025-01-14

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