一种单晶碱抛光添加剂、抛光液及抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110508319.5

申请日：

2021-05-10

公开(公告)号：

CN113322008A

公开(公告)日：

2021-08-31

发明(设计)人：

蒋旭东朱进蒋良平

申请人：

申请人地址：

210000 江苏省南京市雨花台区龙藏大道9号一层

IPC主分类号：

C09G118

IPC分类号：

B24B100

代理机构：

南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204

代理人：

苏虹

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-09-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09G 1/18 申请日:20210510
2022-11-18	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C09G 1/18 申请公布日:20210831
2021-08-31	公开	公开

共 50 条

[1]

一种抛光添加剂、抛光液、抛光方法和电池的制备方法 [P].

陈伟 ;

刘尧平 ;

张小虎 ;

刘操 ;

杜小龙 .

中国专利 :CN116445086B ,2024-11-22

[2]

一种用于镍基合金的电解抛光液添加剂、抛光液及抛光方法 [P].

安茂忠 ;

任淼玉 ;

李亚强 ;

董毅超 ;

江杰 ;

张远航 ;

杨培霞 ;

张锦秋 .

中国专利 :CN115142113A ,2022-10-04

[3]

一种硅片抛光添加剂、抛光液及其制备方法和应用 [P].

虢小康 ;

陈瑞 ;

张敏敏 ;

夏庆华 ;

刘晶 ;

朱海佳 .

中国专利 :CN114774004A ,2022-07-22

[4]

两酸无黄烟抛光添加剂及抛光液 [P].

夏良文 ;

王相刚 .

中国专利 :CN105132917A ,2015-12-09

[5]

一种单晶硅碱抛光添加剂及其制备方法和抛光方法 [P].

李翔 .

中国专利 :CN117946591A ,2024-04-30

[6]

一种用于抛光锗单晶的抛光液及锗单晶抛光方法 [P].

杲星 ;

李忠继 ;

顾跃 ;

赵玲 ;

赵静 ;

刘小琦 .

中国专利 :CN113913116B ,2022-01-11

[7]

一种改善单晶硅碱抛光外观问题的添加剂及其抛光工艺 [P].

常帅锋 ;

陈心浩 ;

吴家阳 ;

周浩 ;

彭丽 ;

王涛 ;

韩军 .

中国专利 :CN114316804A ,2022-04-12

[8]

一种抛光液添加剂及其制备方法 [P].

王森 ;

付存 ;

高礼明 ;

汪静 .

中国专利 :CN105524558A ,2016-04-27

[9]

一种抛光液及抛光方法 [P].

汤英童 ;

杨长城 ;

管祥彪 ;

王鹏 ;

袁顺山 .

中国专利 :CN104860541A ,2015-08-26

[10]

一种电解抛光液、抛光装置及抛光方法 [P].

胡晓文 ;

刘忙仔 ;

杨俊峰 ;

赵洪军 ;

刘美红 .

中国专利 :CN109778298A ,2019-05-21

← 1 2 3 4 5 →