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化学机械研磨元件、晶圆的研磨方法及晶圆研磨系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200910179874.7
申请日
:
2009-10-16
公开(公告)号
:
CN101879700A
公开(公告)日
:
2010-11-10
发明(设计)人
:
林俞良
黄见翎
汪青蓉
余振华
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
IPC主分类号
:
B24B3704
IPC分类号
:
B24B5702
B24B5312
B24B5500
H01L2100
H01L21306
代理机构
:
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019
代理人
:
寿宁;张华辉
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2010-11-10
公开
公开
2011-01-19
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101031107275 IPC(主分类):B24B 37/04 专利申请号:2009101798747 申请日:20091016
2013-03-27
授权
授权
共 50 条
[1]
晶圆的化学机械研磨装置
[P].
章惠群
论文数:
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章惠群
;
林沧荣
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林沧荣
;
黄昭元
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黄昭元
.
中国专利
:CN1414608A
,2003-04-30
[2]
晶圆研磨设备及晶圆研磨方法
[P].
孙永康
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
孙永康
;
夏汇哲
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
夏汇哲
;
臧志城
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
臧志城
;
王斌超
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
王斌超
;
张俊铠
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
张俊铠
.
中国专利
:CN119609936A
,2025-03-14
[3]
晶圆研磨装置及晶圆研磨方法
[P].
周庆亚
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
周庆亚
;
李伟
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
李伟
;
刘福强
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
刘福强
;
孟晓云
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
孟晓云
.
中国专利
:CN118456276A
,2024-08-09
[4]
晶圆研磨定位环以及化学机械研磨设备
[P].
高思玮
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高思玮
;
吴端毅
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吴端毅
;
林保璋
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林保璋
;
张健
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张健
;
张溢钢
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张溢钢
.
中国专利
:CN201856158U
,2011-06-08
[5]
晶圆研磨定位环及化学机械研磨设备
[P].
张健
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
张健
;
周海锋
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
周海锋
.
中国专利
:CN118493247A
,2024-08-16
[6]
一种化学机械研磨设备及晶圆研磨方法
[P].
请求不公布姓名
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机构:
星钥(珠海)半导体有限公司
星钥(珠海)半导体有限公司
请求不公布姓名
.
中国专利
:CN117428606A
,2024-01-23
[7]
晶圆的化学机械研磨方法及其装置
[P].
王星贸
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王星贸
;
林沧荣
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林沧荣
;
黄昭元
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黄昭元
.
中国专利
:CN1414607A
,2003-04-30
[8]
晶圆研磨装置高速研磨头
[P].
陈琳
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陈琳
.
中国专利
:CN209681910U
,2019-11-26
[9]
一种晶圆研磨头及化学机械研磨机
[P].
冯所利
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冯所利
.
中国专利
:CN208231541U
,2018-12-14
[10]
一种晶圆研磨系统和晶圆研磨方法
[P].
郭顺华
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郭顺华
;
曾伟雄
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曾伟雄
;
曾明
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曾明
;
李天慧
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李天慧
.
中国专利
:CN112440203B
,2021-03-05
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