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晶圆的化学机械研磨装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN01134241.2
申请日
:
2001-10-26
公开(公告)号
:
CN1414608A
公开(公告)日
:
2003-04-30
发明(设计)人
:
章惠群
林沧荣
黄昭元
申请人
:
申请人地址
:
台湾省新竹科学园区
IPC主分类号
:
H01L21302
IPC分类号
:
B24B100
B24B722
代理机构
:
北京三友知识产权代理有限公司
代理人
:
刘朝华
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2003-07-16
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-06-15
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回
2003-04-30
公开
公开
2002-02-13
实质审查的生效
实质审查的生效
共 50 条
[1]
化学机械研磨元件、晶圆的研磨方法及晶圆研磨系统
[P].
林俞良
论文数:
0
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0
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0
林俞良
;
黄见翎
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黄见翎
;
汪青蓉
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0
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0
汪青蓉
;
余振华
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0
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0
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0
余振华
.
中国专利
:CN101879700A
,2010-11-10
[2]
晶圆的化学机械研磨方法及其装置
[P].
王星贸
论文数:
0
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王星贸
;
林沧荣
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0
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0
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0
林沧荣
;
黄昭元
论文数:
0
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0
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0
黄昭元
.
中国专利
:CN1414607A
,2003-04-30
[3]
化学机械研磨装置的晶圆载具结构
[P].
洪永泰
论文数:
0
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洪永泰
;
黄启东
论文数:
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0
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黄启东
.
中国专利
:CN1416999A
,2003-05-14
[4]
一种晶圆化学机械研磨装置
[P].
张磊
论文数:
0
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机构:
苏州芯轮半导体科技有限公司
苏州芯轮半导体科技有限公司
张磊
;
温鹏飞
论文数:
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机构:
苏州芯轮半导体科技有限公司
苏州芯轮半导体科技有限公司
温鹏飞
;
朱伟明
论文数:
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机构:
苏州芯轮半导体科技有限公司
苏州芯轮半导体科技有限公司
朱伟明
.
中国专利
:CN223084518U
,2025-07-11
[5]
晶圆用的化学机械研磨机台
[P].
汪戬
论文数:
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汪戬
.
中国专利
:CN213999055U
,2021-08-20
[6]
晶圆化学机械研磨的静电吸盘装置
[P].
魏耀松
论文数:
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机构:
佳仕赋科技有限公司
佳仕赋科技有限公司
魏耀松
.
中国专利
:CN119501804A
,2025-02-25
[7]
晶圆研磨定位环以及化学机械研磨设备
[P].
高思玮
论文数:
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高思玮
;
吴端毅
论文数:
0
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吴端毅
;
林保璋
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0
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林保璋
;
张健
论文数:
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张健
;
张溢钢
论文数:
0
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0
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张溢钢
.
中国专利
:CN201856158U
,2011-06-08
[8]
晶圆用的化学机械研磨垫
[P].
汪戬
论文数:
0
引用数:
0
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0
汪戬
.
中国专利
:CN213999050U
,2021-08-20
[9]
一种晶圆化学机械研磨方法
[P].
惠宏业
论文数:
0
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0
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机构:
宁波润平电子材料有限公司
宁波润平电子材料有限公司
惠宏业
;
杨加明
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机构:
宁波润平电子材料有限公司
宁波润平电子材料有限公司
杨加明
;
姚力军
论文数:
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机构:
宁波润平电子材料有限公司
宁波润平电子材料有限公司
姚力军
;
左威
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机构:
宁波润平电子材料有限公司
宁波润平电子材料有限公司
左威
;
白灵敏
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机构:
宁波润平电子材料有限公司
宁波润平电子材料有限公司
白灵敏
;
赵梓聿
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机构:
宁波润平电子材料有限公司
宁波润平电子材料有限公司
赵梓聿
;
柏钧天
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机构:
宁波润平电子材料有限公司
宁波润平电子材料有限公司
柏钧天
.
中国专利
:CN119238355A
,2025-01-03
[10]
晶圆清洗装置以及化学机械研磨设备
[P].
陈枫
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0
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0
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0
陈枫
.
中国专利
:CN202174489U
,2012-03-28
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