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化学机械研磨装置的晶圆载具结构
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN01131390.0
申请日
:
2001-10-29
公开(公告)号
:
CN1416999A
公开(公告)日
:
2003-05-14
发明(设计)人
:
洪永泰
黄启东
申请人
:
申请人地址
:
台湾省新竹科学工业园区力行路16号
IPC主分类号
:
B23Q306
IPC分类号
:
代理机构
:
北京集佳专利商标事务所
代理人
:
王学强
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2007-05-09
授权
授权
2005-02-16
实质审查的生效
实质审查的生效
2020-10-20
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B23Q 3/06 申请日:20011029 授权公告日:20070509 终止日期:20191029
2003-05-14
公开
公开
共 50 条
[1]
晶圆的化学机械研磨装置
[P].
章惠群
论文数:
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章惠群
;
林沧荣
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林沧荣
;
黄昭元
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黄昭元
.
中国专利
:CN1414608A
,2003-04-30
[2]
化学机械研磨元件、晶圆的研磨方法及晶圆研磨系统
[P].
林俞良
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林俞良
;
黄见翎
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黄见翎
;
汪青蓉
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汪青蓉
;
余振华
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余振华
.
中国专利
:CN101879700A
,2010-11-10
[3]
晶圆的化学机械研磨方法及其装置
[P].
王星贸
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王星贸
;
林沧荣
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林沧荣
;
黄昭元
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黄昭元
.
中国专利
:CN1414607A
,2003-04-30
[4]
一种晶圆化学机械研磨方法
[P].
惠宏业
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机构:
宁波润平电子材料有限公司
宁波润平电子材料有限公司
惠宏业
;
杨加明
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机构:
宁波润平电子材料有限公司
宁波润平电子材料有限公司
杨加明
;
姚力军
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机构:
宁波润平电子材料有限公司
宁波润平电子材料有限公司
姚力军
;
左威
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机构:
宁波润平电子材料有限公司
宁波润平电子材料有限公司
左威
;
白灵敏
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机构:
宁波润平电子材料有限公司
宁波润平电子材料有限公司
白灵敏
;
赵梓聿
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机构:
宁波润平电子材料有限公司
宁波润平电子材料有限公司
赵梓聿
;
柏钧天
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机构:
宁波润平电子材料有限公司
宁波润平电子材料有限公司
柏钧天
.
中国专利
:CN119238355A
,2025-01-03
[5]
一种晶圆化学机械研磨装置
[P].
张磊
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机构:
苏州芯轮半导体科技有限公司
苏州芯轮半导体科技有限公司
张磊
;
温鹏飞
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机构:
苏州芯轮半导体科技有限公司
苏州芯轮半导体科技有限公司
温鹏飞
;
朱伟明
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机构:
苏州芯轮半导体科技有限公司
苏州芯轮半导体科技有限公司
朱伟明
.
中国专利
:CN223084518U
,2025-07-11
[6]
晶圆用的化学机械研磨机台
[P].
汪戬
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汪戬
.
中国专利
:CN213999055U
,2021-08-20
[7]
晶圆化学机械研磨的静电吸盘装置
[P].
魏耀松
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机构:
佳仕赋科技有限公司
佳仕赋科技有限公司
魏耀松
.
中国专利
:CN119501804A
,2025-02-25
[8]
晶圆研磨定位环以及化学机械研磨设备
[P].
高思玮
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高思玮
;
吴端毅
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吴端毅
;
林保璋
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林保璋
;
张健
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张健
;
张溢钢
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张溢钢
.
中国专利
:CN201856158U
,2011-06-08
[9]
晶圆用的化学机械研磨垫
[P].
汪戬
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0
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0
汪戬
.
中国专利
:CN213999050U
,2021-08-20
[10]
一种晶圆研磨头及化学机械研磨机
[P].
冯所利
论文数:
0
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0
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冯所利
.
中国专利
:CN208231541U
,2018-12-14
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