集成电路结构及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201010131800.9
申请日
2010-03-16
公开(公告)号
CN101840888A
公开(公告)日
2010-09-22
发明(设计)人
陈能国 蔡正原 曾国华
申请人
申请人地址
中国台湾新竹市
IPC主分类号
H01L218234
IPC分类号
H01L21762 H01L27088
代理机构
隆天国际知识产权代理有限公司 72003
代理人
姜燕;邢雪红
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
集成电路及其形成方法 [P]. 
陈奕寰 ;
周建志 ;
亚历山大·卡尔尼斯基 ;
郑光茗 .
中国专利 :CN112018069B ,2020-12-01
[2]
集成电路结构及其形成方法 [P]. 
林孟汉 ;
张盟昇 .
中国专利 :CN114843264A ,2022-08-02
[3]
集成电路结构及其形成方法 [P]. 
杨岱宜 ;
廖御杰 ;
吴佳典 ;
陈欣苹 ;
陈海清 ;
眭晓林 .
中国专利 :CN110957268A ,2020-04-03
[4]
集成电路结构及其形成方法 [P]. 
刘重希 ;
余振华 ;
米玉杰 ;
孙元成 .
中国专利 :CN101241897A ,2008-08-13
[5]
集成电路及其形成方法 [P]. 
庄学理 ;
刘铭棋 ;
刘世昌 .
中国专利 :CN111435662A ,2020-07-21
[6]
集成电路结构及其形成方法 [P]. 
袁峰 ;
李宗霖 ;
陈宏铭 ;
张长昀 .
中国专利 :CN102044469A ,2011-05-04
[7]
集成电路结构及其形成方法 [P]. 
黄天建 ;
沈瑞滨 ;
张智贤 .
中国专利 :CN113571514A ,2021-10-29
[8]
集成电路结构及其形成方法 [P]. 
张惠林 ;
卢永诚 ;
章勋明 .
中国专利 :CN101465315A ,2009-06-24
[9]
集成电路结构及其形成方法 [P]. 
柯志欣 ;
万幸仁 .
中国专利 :CN101901766A ,2010-12-01
[10]
集成电路结构及其形成方法 [P]. 
黄天建 ;
沈瑞滨 ;
张智贤 .
中国专利 :CN113571514B ,2024-04-12