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集成电路结构及其形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201010131800.9
申请日
:
2010-03-16
公开(公告)号
:
CN101840888A
公开(公告)日
:
2010-09-22
发明(设计)人
:
陈能国
蔡正原
曾国华
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹市
IPC主分类号
:
H01L218234
IPC分类号
:
H01L21762
H01L27088
代理机构
:
隆天国际知识产权代理有限公司 72003
代理人
:
姜燕;邢雪红
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2010-09-22
公开
公开
2013-09-11
授权
授权
2010-11-10
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101013683068 IPC(主分类):H01L 21/8234 专利申请号:2010101318009 申请日:20100316
共 50 条
[1]
集成电路及其形成方法
[P].
陈奕寰
论文数:
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0
陈奕寰
;
周建志
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周建志
;
亚历山大·卡尔尼斯基
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亚历山大·卡尔尼斯基
;
郑光茗
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郑光茗
.
中国专利
:CN112018069B
,2020-12-01
[2]
集成电路结构及其形成方法
[P].
林孟汉
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林孟汉
;
张盟昇
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张盟昇
.
中国专利
:CN114843264A
,2022-08-02
[3]
集成电路结构及其形成方法
[P].
杨岱宜
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杨岱宜
;
廖御杰
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廖御杰
;
吴佳典
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吴佳典
;
陈欣苹
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陈欣苹
;
陈海清
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陈海清
;
眭晓林
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眭晓林
.
中国专利
:CN110957268A
,2020-04-03
[4]
集成电路结构及其形成方法
[P].
刘重希
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刘重希
;
余振华
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余振华
;
米玉杰
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米玉杰
;
孙元成
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孙元成
.
中国专利
:CN101241897A
,2008-08-13
[5]
集成电路及其形成方法
[P].
庄学理
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庄学理
;
刘铭棋
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刘铭棋
;
刘世昌
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刘世昌
.
中国专利
:CN111435662A
,2020-07-21
[6]
集成电路结构及其形成方法
[P].
袁峰
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袁峰
;
李宗霖
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李宗霖
;
陈宏铭
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陈宏铭
;
张长昀
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张长昀
.
中国专利
:CN102044469A
,2011-05-04
[7]
集成电路结构及其形成方法
[P].
黄天建
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黄天建
;
沈瑞滨
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沈瑞滨
;
张智贤
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0
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张智贤
.
中国专利
:CN113571514A
,2021-10-29
[8]
集成电路结构及其形成方法
[P].
张惠林
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张惠林
;
卢永诚
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卢永诚
;
章勋明
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0
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章勋明
.
中国专利
:CN101465315A
,2009-06-24
[9]
集成电路结构及其形成方法
[P].
柯志欣
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柯志欣
;
万幸仁
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万幸仁
.
中国专利
:CN101901766A
,2010-12-01
[10]
集成电路结构及其形成方法
[P].
黄天建
论文数:
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
黄天建
;
沈瑞滨
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
沈瑞滨
;
张智贤
论文数:
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张智贤
.
中国专利
:CN113571514B
,2024-04-12
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