光阻结构及晶圆曝光装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201821801929.4

申请日：

2018-11-02

公开(公告)号：

CN208848031U

公开(公告)日：

2019-05-10

发明(设计)人：

沈雪古哲安黄志凯叶日铨

申请人：

申请人地址：

223300 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号

IPC主分类号：

G03F709

IPC分类号：

代理机构：

上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294

代理人：

孙佳胤;陈丽丽

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-05-10	授权	授权

共 50 条

[1]

掩膜版夹具及晶圆曝光装置 [P].

周阳 ;

葛伟伟 ;

黄志凯 .

中国专利 :CN207611234U ,2018-07-13

[2]

晶圆对准标定方法及晶圆曝光方法 [P].

李康平 ;

刘冰鑫 ;

王超 ;

方敏晰 ;

朱朋旭 .

中国专利 :CN118444541A ,2024-08-06

[3]

晶圆曝光方法及晶圆曝光设备 [P].

朱朋旭 ;

李康平 ;

刘冰鑫 ;

王超 ;

方敏晰 .

中国专利 :CN119126510A ,2024-12-13

[4]

联锁结构及晶圆处理装置 [P].

郑琨 ;

杨小龙 ;

熊佳瑜 ;

陈浩 ;

朱熹 ;

李成 .

中国专利 :CN214624979U ,2021-11-05

[5]

晶圆基座及晶圆处理装置 [P].

王昕昀 ;

吴孝哲 ;

胡广严 ;

吴龙江 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN208743270U ,2019-04-16

[6]

晶圆边缘曝光方法、晶圆边缘曝光装置及掩膜板 [P].

陈琦南 .

中国专利 :CN113433799B ,2021-09-24

[7]

气锁及晶圆传送装置 [P].

王敏磊 ;

栾剑峰 ;

刘家桦 .

中国专利 :CN207938584U ,2018-10-02

[8]

晶圆清洗装置及晶圆清洗方法 [P].

吴奇龙 .

中国专利 :CN112864043A ,2021-05-28

[9]

晶圆清洗装置及晶圆清洗方法 [P].

董鹏 .

中国专利 :CN113690127A ,2021-11-23

[10]

晶圆处理装置及晶圆处理方法 [P].

董佳仁 .

中国专利 :CN112768369A ,2021-05-07

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