化学气相沉积系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810306514.4

申请日：

2008-12-24

公开(公告)号：

CN101760728B

公开(公告)日：

2010-06-30

发明(设计)人：

裴绍凯

申请人：

申请人地址：

518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-06-30	公开	公开
2012-11-21	授权	授权
2017-02-15	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101702997244 IPC(主分类):C23C 16/455 专利号:ZL2008103065144 申请日:20081224 授权公告日:20121121 终止日期:20151224
2011-05-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101073088478 IPC(主分类):C23C 16/455 专利申请号:2008103065144 申请日:20081224

共 50 条

[1]

化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法 [P].

N·P·德斯科维奇 ;

W·D·格罗夫 .

中国专利 :CN105369211A ,2016-03-02

[2]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[3]

化学气相沉积系统 [P].

南琦 ;

刘瑞 ;

邓敏 .

中国专利 :CN209162187U ,2019-07-26

[4]

化学气相沉积系统 [P].

胡丹 ;

朱刘 ;

余明 .

中国专利 :CN210104068U ,2020-02-21

[5]

化学气相沉积系统 [P].

方建中 ;

杨成傑 ;

郑祥炬 .

中国专利 :CN103374709A ,2013-10-30

[6]

化学气相沉积系统 [P].

钟瑞伦 ;

吴俊鹏 .

中国专利 :CN211522317U ,2020-09-18

[7]

化学气相沉积系统 [P].

赵嘉峰 ;

陈飞 ;

项辉 .

中国专利 :CN217895750U ,2022-11-25

[8]

化学气相沉积系统 [P].

卢柏菁 ;

黄冠宁 .

中国专利 :CN109306471A ,2019-02-05

[9]

化学气相沉积设备 [P].

裴绍凯 .

中国专利 :CN102108498B ,2011-06-29

[10]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN102851651A ,2013-01-02

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