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集成电路结构及其形成方法
被引:0
申请号
:
CN202210822368.0
申请日
:
2022-07-12
公开(公告)号
:
CN115527988A
公开(公告)日
:
2022-12-27
发明(设计)人
:
郑安皓
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
IPC主分类号
:
H01L23528
IPC分类号
:
H01L23522
代理机构
:
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006
代理人
:
徐金国
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-12-27
公开
公开
共 50 条
[1]
集成电路结构及其形成方法
[P].
袁峰
论文数:
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袁峰
;
李宗霖
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李宗霖
;
陈宏铭
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陈宏铭
;
张长昀
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张长昀
.
中国专利
:CN102044469A
,2011-05-04
[2]
集成电路结构及其形成方法
[P].
潘谊纹
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潘谊纹
;
柯忠祁
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柯忠祁
.
中国专利
:CN115000015A
,2022-09-02
[3]
集成电路结构及其形成方法
[P].
陈俊强
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陈俊强
;
吴俊廷
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吴俊廷
;
苏钦豪
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苏钦豪
;
王志彬
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王志彬
.
中国专利
:CN113130386A
,2021-07-16
[4]
集成电路结构及其形成方法
[P].
黄天建
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黄天建
;
沈瑞滨
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沈瑞滨
;
张智贤
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张智贤
.
中国专利
:CN113571514A
,2021-10-29
[5]
集成电路结构及其形成方法
[P].
林孟汉
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林孟汉
;
张盟昇
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张盟昇
.
中国专利
:CN114843264A
,2022-08-02
[6]
集成电路结构及其形成方法
[P].
陈俊强
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈俊强
;
吴俊廷
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
吴俊廷
;
苏钦豪
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
苏钦豪
;
王志彬
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
王志彬
.
中国专利
:CN113130386B
,2025-02-28
[7]
集成电路结构及其形成方法
[P].
张洸鋐
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张洸鋐
;
侯元德
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侯元德
;
王中兴
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王中兴
;
侯永清
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侯永清
.
中国专利
:CN113451303A
,2021-09-28
[8]
集成电路结构及其形成方法
[P].
黄天建
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
黄天建
;
沈瑞滨
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
沈瑞滨
;
张智贤
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张智贤
.
中国专利
:CN113571514B
,2024-04-12
[9]
集成电路结构及其形成方法
[P].
布伦特·A·安德森
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布伦特·A·安德森
;
杨美基
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杨美基
;
爱德华·J·诺瓦克
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爱德华·J·诺瓦克
.
中国专利
:CN100367500C
,2005-10-12
[10]
集成电路结构及其形成方法
[P].
赖盈妤
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赖盈妤
;
林志轩
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林志轩
;
陈玺中
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陈玺中
;
廖志腾
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廖志腾
.
中国专利
:CN114496918A
,2022-05-13
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