一种纳米压印光刻机

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710178789.X

申请日：

2007-12-05

公开(公告)号：

CN101452207A

公开(公告)日：

2009-06-10

发明(设计)人：

姜骥谢常青岑专专商立伟刘兴华刘明

申请人：

申请人地址：

100029北京市朝阳区北土城西路3号

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

周国城

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-08-05	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-06-10	公开	公开
2011-12-07	授权	授权

共 50 条

[1]

纳米压印光刻机 [P].

康晓辉 ;

范东升 .

中国专利 :CN2783376Y ,2006-05-24

[2]

一种纳米压印光刻机 [P].

陈杰相 .

中国专利 :CN215376079U ,2021-12-31

[3]

一种纳米压印光刻机 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN215297936U ,2021-12-24

[4]

一种新型纳米压印光刻机 [P].

孙立 ;

胡金鑫 ;

刘晖 .

中国专利 :CN214704307U ,2021-11-12

[5]

一种整片晶圆纳米压印光刻机 [P].

孙立 ;

胡金鑫 ;

刘晖 .

中国专利 :CN214704303U ,2021-11-12

[6]

一种整片晶圆纳米压印光刻机 [P].

兰红波 ;

丁玉成 .

中国专利 :CN202205025U ,2012-04-25

[7]

一种整片晶圆纳米压印光刻机 [P].

兰红波 ;

丁玉成 .

中国专利 :CN102346369A ,2012-02-08

[8]

一种复合纳米压印光刻机及工作方法 [P].

兰红波 ;

郭良乐 .

中国专利 :CN106918987B ,2017-07-04

[9]

一种高精度纳米压印光刻设备 [P].

蔡胜 ;

关成刚 ;

黄豆 .

中国专利 :CN216248761U ,2022-04-08

[10]

一种简易紫外纳米压印光刻装置 [P].

兰俊 ;

刘锡 ;

杨勇 ;

陈磊 ;

余斯洋 ;

龚健文 ;

赵立新 ;

胡松 .

中国专利 :CN113031391A ,2021-06-25

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