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光致抗蚀剂组合物
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN03110718.4
申请日
:
2003-03-05
公开(公告)号
:
CN1527135A
公开(公告)日
:
2004-09-08
发明(设计)人
:
G·N·泰勒
G·G·登
申请人
:
申请人地址
:
美国马萨诸塞州
IPC主分类号
:
G03F7028
IPC分类号
:
G03F716
G03F700
代理机构
:
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人
:
戈泊
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2005-11-30
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-07-15
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回
2004-09-08
公开
公开
共 50 条
[1]
光致抗蚀剂组合物
[P].
郑载昌
论文数:
0
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0
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郑载昌
.
中国专利
:CN1603952A
,2005-04-06
[2]
光致抗蚀剂组合物
[P].
金子勇
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金子勇
;
冈田伸治
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冈田伸治
;
川口泰秀
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川口泰秀
;
武部洋子
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武部洋子
;
儿玉俊一
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儿玉俊一
.
中国专利
:CN1221861C
,2004-04-28
[3]
光致抗蚀剂组合物
[P].
增山达郎
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增山达郎
;
桥本和彦
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桥本和彦
;
重松淳二
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重松淳二
.
中国专利
:CN102043336A
,2011-05-04
[4]
光致抗蚀剂组合物
[P].
刘陆
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刘陆
;
邹应全
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邹应全
;
杨遇春
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杨遇春
;
黄勇
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黄勇
;
刘启升
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刘启升
.
中国专利
:CN101813886A
,2010-08-25
[5]
光致抗蚀剂组合物
[P].
M·派德马纳班
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M·派德马纳班
;
S·查克拉帕尼
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S·查克拉帕尼
.
中国专利
:CN101606102A
,2009-12-16
[6]
光致抗蚀剂组合物
[P].
增山达郎
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增山达郎
;
向井优一
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向井优一
;
岛田雅彦
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岛田雅彦
.
中国专利
:CN102129171A
,2011-07-20
[7]
光致抗蚀剂底层组合物
[P].
Y-J·姜
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机构:
罗门哈斯电子材料韩国有限公司
罗门哈斯电子材料韩国有限公司
Y-J·姜
;
安载润
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机构:
罗门哈斯电子材料韩国有限公司
罗门哈斯电子材料韩国有限公司
安载润
;
Y·R·申
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机构:
罗门哈斯电子材料韩国有限公司
罗门哈斯电子材料韩国有限公司
Y·R·申
;
李晶真
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机构:
罗门哈斯电子材料韩国有限公司
罗门哈斯电子材料韩国有限公司
李晶真
;
沈载桓
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机构:
罗门哈斯电子材料韩国有限公司
罗门哈斯电子材料韩国有限公司
沈载桓
.
韩国专利
:CN118092073A
,2024-05-28
[8]
光致抗蚀剂底层组合物
[P].
A·查韦斯
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机构:
罗门哈斯电子材料有限责任公司
罗门哈斯电子材料有限责任公司
A·查韦斯
;
柯佑晟
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机构:
罗门哈斯电子材料有限责任公司
罗门哈斯电子材料有限责任公司
柯佑晟
;
山田晋太郎
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机构:
罗门哈斯电子材料有限责任公司
罗门哈斯电子材料有限责任公司
山田晋太郎
.
美国专利
:CN117724294A
,2024-03-19
[9]
光致抗蚀剂移除组合物
[P].
朴成焕
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朴成焕
;
李昌奂
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李昌奂
;
曹三永
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曹三永
;
金玮鎔
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金玮鎔
;
尹锡壹
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尹锡壹
.
中国专利
:CN1277156C
,2004-10-13
[10]
光致抗蚀剂底层组合物
[P].
L-S·柯
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机构:
杜邦电子材料国际有限责任公司
杜邦电子材料国际有限责任公司
L-S·柯
;
A·查韦斯
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机构:
杜邦电子材料国际有限责任公司
杜邦电子材料国际有限责任公司
A·查韦斯
;
山田晋太郎
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机构:
杜邦电子材料国际有限责任公司
杜邦电子材料国际有限责任公司
山田晋太郎
.
美国专利
:CN116300309B
,2025-12-12
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