用于CMP抛光垫的碎屑移除凹槽

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710180712.X

申请日：

2017-03-23

公开(公告)号：

CN107225498A

公开(公告)日：

2017-10-03

发明(设计)人：

L·M·库克 Y·童 J·索 J·J·亨德伦 P·康奈尔

申请人：

申请人地址：

美国特拉华州

IPC主分类号：

B24B3726

IPC分类号：

H01L21304

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

陈哲锋;胡嘉倩

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-11-03	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/26 申请日:20170323
2017-10-03	公开	公开
2020-09-18	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B24B 37/26 申请公布日:20171003

共 50 条

[1]

CMP抛光垫 [P].

钱百年 ;

D·M·奥尔登 ;

M·西莫奇 ;

邱南荣 ;

曾圣桓 .

中国专利 :CN115555987A ,2023-01-03

[2]

双层CMP抛光子垫 [P].

侯冠华 ;

A·旺克 ;

王德纯 ;

N·A·瓦斯克斯 ;

J·R·麦考密克 .

美国专利 :CN118123703A ,2024-06-04

[3]

微层CMP抛光子垫 [P].

侯冠华 ;

B·E·巴尔顿 ;

A·阿尔斯拜伊 ;

A·旺克 ;

王德纯 ;

A·M·克洛万斯 ;

N·A·瓦斯克斯 ;

J·R·麦考密克 .

美国专利 :CN118123702A ,2024-06-04

[4]

CMP抛光垫中的渗透式开凹槽 [P].

克里斯托弗·李·舒特 ;

普拉卡什·拉克希米坎坦 .

中国专利 :CN104440519A ,2015-03-25

[5]

具有提高的速率的CMP抛光垫 [P].

M·T·伊斯兰 .

美国专利 :CN115139219B ,2024-10-29

[6]

具有提高的速率的CMP抛光垫 [P].

M·T·伊斯兰 .

中国专利 :CN115139219A ,2022-10-04

[7]

薄膜氟聚合物复合CMP抛光垫 [P].

M·T·伊斯兰 ;

邱南荣 ;

M·R·加丁科 ;

Y·朴 ;

G·S·布莱克曼 ;

L·张 ;

G·C·雅各布 .

中国专利 :CN112059899B ,2020-12-11

[8]

抛光垫（cmp） [P].

李加海 ;

杨惠明 ;

李元祥 .

中国专利 :CN308889171S ,2024-10-18

[9]

具有均匀窗口的CMP抛光垫 [P].

M·E·古兹曼 ;

N·A·瓦斯克斯 ;

M·R·加丁科 ;

M·E·米尔斯 .

美国专利 :CN113829232B ,2024-07-12

[10]

具有均匀窗口的CMP抛光垫 [P].

M·E·古兹曼 ;

N·A·瓦斯克斯 ;

M·R·加丁科 ;

M·E·米尔斯 .

中国专利 :CN113829232A ,2021-12-24

← 1 2 3 4 5 →