具有均匀窗口的CMP抛光垫

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110690687.6
申请日
2021-06-22
公开(公告)号
CN113829232B
公开(公告)日
2024-07-12
发明(设计)人
M·E·古兹曼 N·A·瓦斯克斯 M·R·加丁科 M·E·米尔斯
申请人
罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
申请人地址
美国特拉华州
IPC主分类号
B24B37/20
IPC分类号
B24B37/24 B24B37/26 B24B37/013
代理机构
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
乐洪咏;陈哲锋
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
具有均匀窗口的CMP抛光垫 [P]. 
M·E·古兹曼 ;
N·A·瓦斯克斯 ;
M·R·加丁科 ;
M·E·米尔斯 .
中国专利 :CN113829232A ,2021-12-24
[2]
具有端点窗口的抛光垫 [P]. 
苏于中 .
美国专利 :CN118418036A ,2024-08-02
[3]
具有端点窗口的抛光垫 [P]. 
苏于中 ;
H·金 .
美国专利 :CN118438341A ,2024-08-06
[4]
具有在支撑件上的抛光元件的CMP抛光垫 [P]. 
J·R·麦考密克 ;
B·E·巴尔顿 .
中国专利 :CN113442055A ,2021-09-28
[5]
具有提高的速率的CMP抛光垫 [P]. 
M·T·伊斯兰 .
美国专利 :CN115139219B ,2024-10-29
[6]
具有提高的速率的CMP抛光垫 [P]. 
M·T·伊斯兰 .
中国专利 :CN115139219A ,2022-10-04
[7]
双层CMP抛光子垫 [P]. 
侯冠华 ;
A·旺克 ;
王德纯 ;
N·A·瓦斯克斯 ;
J·R·麦考密克 .
美国专利 :CN118123703A ,2024-06-04
[8]
具有高透光窗口的抛光垫 [P]. 
J·V·H·罗伯茨 .
中国专利 :CN1622289A ,2005-06-01
[9]
具有密封窗口的化学机械抛光垫 [P]. 
D·斯特林 ;
J·W·图雷 .
中国专利 :CN103286675A ,2013-09-11
[10]
具有终点检测窗口的抛光垫 [P]. 
H·金 .
美国专利 :CN120715802A ,2025-09-30