具有密封窗口的化学机械抛光垫

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310066166.9

申请日：

2009-10-15

公开(公告)号：

CN103286675A

公开(公告)日：

2013-09-11

发明(设计)人：

D·斯特林 J·W·图雷

申请人：

申请人地址：

美国特拉华州

IPC主分类号：

B24B3722

IPC分类号：

B24B3720

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

樊云飞

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-02-17	授权	授权
2013-09-11	公开	公开
2013-10-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101529134376 IPC(主分类):B24B 37/22 专利申请号:2013100661669 申请日:20091015

共 50 条

[1]

具有密封窗口的化学机械抛光垫 [P].

D·斯特林 ;

J·W·图雷 .

中国专利 :CN101722464A ,2010-06-09

[2]

具有窗口的化学机械抛光垫 [P].

J·索 ;

B·钱 ;

J·泰斯法 .

中国专利 :CN105965382B ,2016-09-28

[3]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

[4]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540224C ,2007-11-28

[5]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[6]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

F·叶 ;

T-C·王 ;

S-H·曾 ;

K·W-H·佟 ;

M·W·德格鲁特 .

中国专利 :CN108687654A ,2018-10-23

[7]

化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

保坂幸生 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100352605C ,2005-03-09

[8]

用于化学机械抛光的包含声学窗口的抛光垫 [P].

N·A·威斯韦尔 ;

B·切里安 ;

T·H·奥斯特海德 ;

J·G·冯 .

美国专利 :CN117677465A ,2024-03-08

[9]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[10]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

T·T·克韦纳克 .

中国专利 :CN101642897A ,2010-02-10

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