用于化学机械抛光的包含声学窗口的抛光垫

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202280047772.3

申请日：

2022-07-05

公开(公告)号：

CN117677465A

公开(公告)日：

2024-03-08

发明(设计)人：

N·A·威斯韦尔 B·切里安 T·H·奥斯特海德 J·G·冯

申请人：

应用材料公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

B24B37/20

IPC分类号：

B24B37/005 B24B49/00 B24B37/24 B24B37/22

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

汪骏飞;侯颖媖

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-03-08	公开	公开
2024-03-26	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/20申请日:20220705

共 50 条

[1]

用于化学机械抛光的抛光垫厚度的监测 [P].

J·张 ;

Z·王 ;

H·Q·李 ;

B·J·布朗 ;

W-C·图 ;

W·H·麦克林托克 ;

W·陆 .

中国专利 :CN109715342A ,2019-05-03

[2]

用于化学机械抛光的抛光垫 [P].

Y·S·奥本 .

中国专利 :CN1863644A ,2006-11-15

[3]

用于化学机械抛光的声学传感器的耦合 [P].

N·A·威斯韦尔 ;

E·S·鲁杜姆 ;

B·切里安 ;

S·布尔曼德 ;

T·H·奥斯特海德 ;

J·古鲁萨米 ;

张寿松 .

美国专利 :CN117615879A ,2024-02-27

[4]

具有窗口的化学机械抛光垫 [P].

J·索 ;

B·钱 ;

J·泰斯法 .

中国专利 :CN105965382B ,2016-09-28

[5]

具有密封窗口的化学机械抛光垫 [P].

D·斯特林 ;

J·W·图雷 .

中国专利 :CN103286675A ,2013-09-11

[6]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

[7]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540224C ,2007-11-28

[8]

用于化学机械抛光的垫 [P].

M·R·加丁斯基 ;

J·索 ;

D·M·奥尔登 .

美国专利 :CN116967931B ,2025-12-26

[9]

监视化学机械抛光中的抛光垫纹理 [P].

T·H·奥斯特海德 ;

B·切里安 .

美国专利 :CN118977201A ,2024-11-19

[10]

用于化学机械抛光的多层抛光垫 [P].

B.姆尔齐格洛德 ;

J.奈尔 ;

G.布莱克 .

中国专利 :CN106575613B ,2017-04-19

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