用于化学机械抛光的抛光垫

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480029047.5

申请日：

2004-09-14

公开(公告)号：

CN1863644A

公开(公告)日：

2006-11-15

发明(设计)人：

Y·S·奥本

申请人：

申请人地址：

美国佛罗里达州

IPC主分类号：

B24D326

IPC分类号：

B24B3704

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

邓毅

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-11-15	公开	公开
2009-06-03	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2007-01-10	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[2]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

T·T·克韦纳克 .

中国专利 :CN101642897A ,2010-02-10

[3]

化学机械抛光垫 [P].

叶逢蓟 ;

钱百年 .

美国专利 :CN119748316A ,2025-04-04

[4]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

[5]

化学机械抛光垫 [P].

张泽芳 ;

彭诗月 .

中国专利 :CN209466099U ,2019-10-08

[6]

化学机械抛光垫 [P].

T·T·克韦纳克 ;

A·S·拉文 ;

C·A·福西特 ;

K·A·普莱贡 ;

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN101306517B ,2008-11-19

[7]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

D·B·詹姆斯 ;

R·F·安特瑞 .

中国专利 :CN101204795A ,2008-06-25

[8]

化学机械抛光垫 [P].

朱顺全 ;

梅黎黎 ;

李云峰 .

中国专利 :CN104149023A ,2014-11-19

[9]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540224C ,2007-11-28

[10]

用于化学机械抛光的垫 [P].

M·R·加丁斯基 ;

J·索 ;

D·M·奥尔登 .

美国专利 :CN116967931B ,2025-12-26

← 1 2 3 4 5 →