监视化学机械抛光中的抛光垫纹理

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411005153.5

申请日：

2020-03-16

公开(公告)号：

CN118977201A

公开(公告)日：

2024-11-19

发明(设计)人：

T·H·奥斯特海德 B·切里安

申请人：

应用材料公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

B24B49/12

IPC分类号：

B24B37/005 H01L21/67 G06T7/40 G06N20/10 G06N7/01 G06N3/084

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

储思哲;侯颖媖

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-19	公开	公开
2024-12-06	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B24B 49/12申请日:20200316

共 50 条

[1]

监视化学机械抛光中的抛光垫纹理 [P].

T·H·奥斯特海德 ;

B·切里安 .

美国专利 :CN113597360B ,2024-08-16

[2]

监视化学机械抛光中的抛光垫纹理 [P].

T·H·奥斯特海德 ;

B·切里安 .

中国专利 :CN113597360A ,2021-11-02

[3]

化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

保坂幸生 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100352605C ,2005-03-09

[4]

化学机械抛光垫 [P].

朱顺全 ;

梅黎黎 ;

李云峰 .

中国专利 :CN104149023A ,2014-11-19

[5]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

[6]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540224C ,2007-11-28

[7]

用于化学机械抛光的抛光垫厚度的监测 [P].

J·张 ;

Z·王 ;

H·Q·李 ;

B·J·布朗 ;

W-C·图 ;

W·H·麦克林托克 ;

W·陆 .

中国专利 :CN109715342A ,2019-05-03

[8]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[9]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[10]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

F·叶 ;

T-C·王 ;

S-H·曾 ;

K·W-H·佟 ;

M·W·德格鲁特 .

中国专利 :CN108687654A ,2018-10-23

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