具有密封窗口的化学机械抛光垫

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910208017.5

申请日：

2009-10-15

公开(公告)号：

CN101722464A

公开(公告)日：

2010-06-09

发明(设计)人：

D·斯特林 J·W·图雷

申请人：

申请人地址：

美国特拉华州

IPC主分类号：

B24B2902

IPC分类号：

B24D1800 H01L2102

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

郭辉;周承泽

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-07-29	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101718729246 IPC(主分类):B24B 29/02 专利申请号:2009102080175 申请公布日:20100609
2010-06-09	公开	公开
2010-08-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101004507239 IPC(主分类):B24B 29/02 专利申请号:2009102080175 申请日:20091015

共 50 条

[1]

具有密封窗口的化学机械抛光垫 [P].

D·斯特林 ;

J·W·图雷 .

中国专利 :CN103286675A ,2013-09-11

[2]

具有窗口的化学机械抛光垫 [P].

J·索 ;

B·钱 ;

J·泰斯法 .

中国专利 :CN105965382B ,2016-09-28

[3]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[4]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

F·叶 ;

T-C·王 ;

S-H·曾 ;

K·W-H·佟 ;

M·W·德格鲁特 .

中国专利 :CN108687654A ,2018-10-23

[5]

化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

保坂幸生 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100352605C ,2005-03-09

[6]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

[7]

具有终点检测窗口的化学机械抛光垫 [P].

钱百年 ;

M·德格鲁特 .

中国专利 :CN104942701B ,2015-09-30

[8]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

M·W·格鲁特 .

中国专利 :CN105014528A ,2015-11-04

[9]

化学机械抛光垫 [P].

宫内裕之 ;

志保浩司 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100437924C ,2005-05-11

[10]

多层化学机械抛光垫 [P].

A·雷珀 ;

M·德格鲁特 .

中国专利 :CN104029114B ,2014-09-10

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