多层化学机械抛光垫

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410080619.8

申请日：

2014-03-06

公开(公告)号：

CN104029114B

公开(公告)日：

2014-09-10

发明(设计)人：

A·雷珀 M·德格鲁特

申请人：

申请人地址：

美国特拉华州

IPC主分类号：

B24B3722

IPC分类号：

B24B3704

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

江磊

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-09-10	公开	公开
2014-10-15	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101587393825 IPC(主分类):B24B 37/22 专利申请号:2014100806198 申请日:20140306
2017-04-26	授权	授权

共 50 条

[1]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[2]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

F·叶 ;

T-C·王 ;

S-H·曾 ;

K·W-H·佟 ;

M·W·德格鲁特 .

中国专利 :CN108687654A ,2018-10-23

[3]

化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

保坂幸生 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100352605C ,2005-03-09

[4]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

[5]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

M·W·格鲁特 .

中国专利 :CN105014528A ,2015-11-04

[6]

化学机械抛光垫 [P].

宫内裕之 ;

志保浩司 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100437924C ,2005-05-11

[7]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540224C ,2007-11-28

[8]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

田野裕之 ;

保坂幸生 ;

西村秀树 .

中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22

[9]

化学机械抛光垫 [P].

P·J·斯科特 ;

J·R·麦考密克 ;

K·劳弗林 ;

J·C·霍威 .

美国专利 :CN120080258A ,2025-06-03

[10]

化学机械抛光垫 [P].

P·J·斯科特 ;

J·R·麦考密克 ;

K·劳弗林 ;

J·C·霍威 .

美国专利 :CN120080259A ,2025-06-03

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