具有提高的速率的CMP抛光垫

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202210341643.7

申请日：

2022-03-29

公开(公告)号：

CN115139219B

公开(公告)日：

2024-10-29

发明(设计)人：

M·T·伊斯兰

申请人：

罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司

申请人地址：

美国特拉华州

IPC主分类号：

B24B37/24

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

陈哲锋;乐洪咏

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-10-29	授权	授权
2025-01-24	专利权人的姓名或者名称、国籍和地址的变更	专利权人的姓名或者名称、国籍和地址的变更IPC(主分类):B24B 37/24变更事项:专利权人变更前:罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司变更后:杜邦电子材料控股股份有限公司变更事项:国家或地区变更前:美国变更后:美国变更事项:地址变更前:美国特拉华州变更后:美国特拉华州

共 50 条

[1]

具有提高的速率的CMP抛光垫 [P].

M·T·伊斯兰 .

中国专利 :CN115139219A ,2022-10-04

[2]

双层CMP抛光子垫 [P].

侯冠华 ;

A·旺克 ;

王德纯 ;

N·A·瓦斯克斯 ;

J·R·麦考密克 .

美国专利 :CN118123703A ,2024-06-04

[3]

CMP抛光垫 [P].

钱百年 ;

D·M·奥尔登 ;

M·西莫奇 ;

邱南荣 ;

曾圣桓 .

中国专利 :CN115555987A ,2023-01-03

[4]

具有均匀窗口的CMP抛光垫 [P].

M·E·古兹曼 ;

N·A·瓦斯克斯 ;

M·R·加丁科 ;

M·E·米尔斯 .

美国专利 :CN113829232B ,2024-07-12

[5]

具有均匀窗口的CMP抛光垫 [P].

M·E·古兹曼 ;

N·A·瓦斯克斯 ;

M·R·加丁科 ;

M·E·米尔斯 .

中国专利 :CN113829232A ,2021-12-24

[6]

具有在支撑件上的抛光元件的CMP抛光垫 [P].

J·R·麦考密克 ;

B·E·巴尔顿 .

中国专利 :CN113442055A ,2021-09-28

[7]

用于CMP抛光垫的碎屑移除凹槽 [P].

L·M·库克 ;

Y·童 ;

J·索 ;

J·J·亨德伦 ;

P·康奈尔 .

中国专利 :CN107225498A ,2017-10-03

[8]

微层CMP抛光子垫 [P].

侯冠华 ;

B·E·巴尔顿 ;

A·阿尔斯拜伊 ;

A·旺克 ;

王德纯 ;

A·M·克洛万斯 ;

N·A·瓦斯克斯 ;

J·R·麦考密克 .

美国专利 :CN118123702A ,2024-06-04

[9]

具有改进的粘着性的水基抛光垫及其制造方法 [P].

C·H·杜昂 .

中国专利 :CN1935461A ,2007-03-28

[10]

带有具有设计的开放空隙空间的突起结构的CMP抛光垫 [P].

J·R·麦考密克 ;

B·E·巴尔顿 .

中国专利 :CN113442057A ,2021-09-28

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