电吸收调制分布反馈半导体激光器件的制作方法

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专利类型
发明
申请号
CN200310122343.7
申请日
2003-12-16
公开(公告)号
CN1630149A
公开(公告)日
2005-06-22
发明(设计)人
胡小华 李宝霞 朱洪亮 王圩
申请人
申请人地址
100083北京市海淀区清华东路甲35号
IPC主分类号
H01S500
IPC分类号
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司
代理人
汤保平
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
电吸收调制隧穿注入式分布反馈半导体激光器的制作方法 [P]. 
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[2]
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[3]
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[4]
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[5]
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李鸿建 ;
郭娟 .
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[6]
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[10]
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