光刻胶剥离液管理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN94119237.7

申请日：

1994-12-23

公开(公告)号：

CN1108767A

公开(公告)日：

1995-09-20

发明(设计)人：

中川俊元 田光三小川修佐藤嘉高盐津信一郎

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

G03C100

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

王以平

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2001-09-12	授权	授权
1995-08-30	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效
1995-09-20	公开	公开
2015-01-14	专利权的终止	专利权有效期届满号牌文件类型代码:1611 号牌文件序号:101595689291 IPC(主分类):G03F 7/42 专利号:ZL941192377 申请日:19941223 授权公告日:20010912 期满终止日期:20141223

共 50 条

[1]

光刻胶剥离液管理装置 [P].

中川俊元 ;

田光三 ;

小川修 ;

宝山隆博 ;

西佳孝 .

中国专利 :CN1174343A ,1998-02-25

[2]

光刻胶剥离液 [P].

侯军 ;

吕冬 .

中国专利 :CN101295144A ,2008-10-29

[3]

光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法 [P].

肋屋和正 ;

横井滋 .

中国专利 :CN1224864C ,2003-07-09

[4]

光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法 [P].

横井滋 ;

胁屋和正 .

中国专利 :CN1244023C ,2003-03-12

[5]

一种光刻胶剥离液 [P].

刘兵 ;

何春阳 ;

孙广胜 ;

黄达辉 .

中国专利 :CN104635438B ,2015-05-20

[6]

一种光刻胶剥离液 [P].

刘江华 .

中国专利 :CN107085357A ,2017-08-22

[7]

光刻胶剥离液及剥离装置 [P].

任学超 .

中国专利 :CN111474832A ,2020-07-31

[8]

有机光刻胶剥离液制备装置 [P].

沈翠芬 ;

戈士勇 ;

盛建伟 .

中国专利 :CN202522843U ,2012-11-07

[9]

光刻胶剥离液组合物 [P].

张伟明 ;

张继贤 ;

李玉兴 ;

衡京 ;

章学春 ;

虞弈星 .

中国专利 :CN120469175A ,2025-08-12

[10]

光刻胶剥离液组合物 [P].

杨久霞 ;

赵吉生 .

中国专利 :CN102147576B ,2011-08-10

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