光刻胶剥离液管理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN97110797.1

申请日：

1997-04-23

公开(公告)号：

CN1174343A

公开(公告)日：

1998-02-25

发明(设计)人：

中川俊元 田光三小川修宝山隆博西佳孝

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

王以平

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
1998-02-25	公开	公开
1997-12-03	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效
2017-05-24	专利权的终止	专利权有效期届满号牌文件类型代码:1611 号牌文件序号:101722427740 IPC(主分类):G03F 7/42 专利号:ZL971107971 申请日:19970423 授权公告日:20020123 终止日期:无
2002-01-23	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻胶剥离液管理装置 [P].

中川俊元 ;

田光三 ;

小川修 ;

佐藤嘉高 ;

盐津信一郎 .

中国专利 :CN1108767A ,1995-09-20

[2]

光刻胶剥离液 [P].

侯军 ;

吕冬 .

中国专利 :CN101295144A ,2008-10-29

[3]

光刻胶剥离液及剥离装置 [P].

任学超 .

中国专利 :CN111474832A ,2020-07-31

[4]

光刻胶剥离液制备装置 [P].

李虎宝 ;

翁蕾蕾 .

中国专利 :CN204241836U ,2015-04-01

[5]

光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法 [P].

横井滋 ;

肋屋和正 .

中国专利 :CN1403876A ,2003-03-19

[6]

光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法 [P].

肋屋和正 ;

横井滋 .

中国专利 :CN1224864C ,2003-07-09

[7]

光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法 [P].

横井滋 ;

胁屋和正 .

中国专利 :CN1244023C ,2003-03-12

[8]

光刻胶剥离液组合物及光刻胶的剥离方法 [P].

许舜范 ;

金炳郁 ;

赵泰杓 ;

尹锡壹 ;

郑世桓 ;

张斗瑛 ;

朴善周 .

中国专利 :CN104781732A ,2015-07-15

[9]

有机光刻胶剥离液制备装置 [P].

沈翠芬 ;

戈士勇 ;

盛建伟 .

中国专利 :CN202522843U ,2012-11-07

[10]

光刻胶剥离液再生方法 [P].

卢燕燕 ;

张丽燕 .

中国专利 :CN111427243A ,2020-07-17

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