使用双重图案化的光致抗蚀剂图像成形方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200980111624.8
申请日
2009-03-30
公开(公告)号
CN101981501A
公开(公告)日
2011-02-23
发明(设计)人
R·R·达梅尔 D·J·阿布达拉 E·阿勒梅 M·帕德马纳本
申请人
申请人地址
美国新泽西
IPC主分类号
G03F700
IPC分类号
G03F740
代理机构
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人
夏正东
法律状态
实质审查的生效
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
正性光致抗蚀剂组合物、使用其的光致抗蚀剂图案和光致抗蚀剂图案的制造方法 [P]. 
林敏映 ;
李泰燮 ;
金智慧 .
中国专利 :CN109429511B ,2019-03-05
[2]
光致抗蚀剂下层和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P]. 
訾安仁 ;
林进祥 ;
张庆裕 .
中国专利 :CN113176708A ,2021-07-27
[3]
光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P]. 
杨立柏 ;
张庆裕 .
中国专利 :CN113238457A ,2021-08-10
[4]
光致抗蚀剂组合物和光致抗蚀剂图案的制造方法 [P]. 
李光武 ;
陈津江 .
中国专利 :CN117608167A ,2024-02-27
[5]
光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P]. 
何俊智 ;
张庆裕 ;
林进祥 .
中国专利 :CN111007695B ,2025-06-06
[6]
光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P]. 
何俊智 ;
张庆裕 ;
林进祥 .
中国专利 :CN111007695A ,2020-04-14
[7]
去除图案化光致抗蚀剂的方法 [P]. 
黄丰铭 ;
蔡建成 .
中国专利 :CN109994375A ,2019-07-09
[8]
图案化光致抗蚀剂的去除 [P]. 
郑雅玲 ;
张庆裕 ;
陈建志 .
中国专利 :CN106168739A ,2016-11-30
[9]
光致抗蚀剂组合物及图案化方法 [P]. 
羽贺满 .
美国专利 :CN120233632A ,2025-07-01
[10]
光致抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
角田力太 ;
柳楠熙 ;
染谷康夫 .
日本专利 :CN112946999B ,2025-12-23